[实用新型]一种低温二氧化硅加工设备有效

专利信息
申请号: 201920428351.0 申请日: 2019-12-07
公开(公告)号: CN210103471U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 许荣明 申请(专利权)人: 福建通源硅业有限公司
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 低温 二氧化硅 加工 设备
【权利要求书】:

1.一种低温二氧化硅加工设备,包括罐体(1),其特征在于:所述罐体(1)的顶部固定安装有罐盖(2),所述罐体(1)的内部固定安装有第一隔离板(3),所述罐体(1)的内部固定安装有位于第一隔离板(3)下方的第二隔离板(4),所述罐体(1)的内部固定安装有位于第二隔离板(4)下方的第三隔离板(5),所述罐体(1)的底部固定安装有数量为四个的支撑腿(6),所述罐体(1)的左侧插装有延伸至第一隔离板(3)上方的进料管(7),所述罐体(1)的左侧固定安装有与罐体(1)的内部连通并位于第一隔离板(3)与第二隔离板(4)相对一侧的进水管(8),所述罐体(1)的右侧固定安装有与罐体(1)的内部连通并位于第一隔离板(3)与第二隔离板(4)相对一侧的出水管(9),所述进料管(7)的外部连通有依次贯穿第一隔离板(3)、第二隔离板(4)与第三隔离板(5)的冷却管(10),所述第二隔离板(4)的底部固定安装有回流箱(11),所述回流箱(11)的右侧连通有右侧贯穿罐体(1)并延伸至罐体(1)外部的出料管(12),所述回流箱(11)的底部连通有贯穿第三隔离板(5)并延伸至罐体(1)内壁底部的吸收管(13),所述吸收管(13)的底部外壁设置有吸收孔(14),所述罐体(1)的内部固定安装有一端贯穿罐体(1)的底部且另一端贯穿第三隔离板(5)的循环管(15),所述罐体(1)的左侧固定安装有与罐体(1)的内部连通且位于第二隔离板(4)与第三隔离板(5)相对一侧的回流管(16),所述罐体(1)的右侧固定安装有位于第三隔离板(5)下方的压力表(17)。

2.根据权利要求1所述的一种低温二氧化硅加工设备,其特征在于:所述罐盖(2)与罐体(1)通过呈环形分布的螺杆固定连接,所述支撑腿(6)与罐体(1)的外部通过连接座固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种低温二氧化硅加工设备,其特征在于:所述冷却管(10)位于第一隔离板(3)与第二隔离板(4)相对一侧的一段呈螺旋设置,所述循环管(15)呈螺旋设置并套接于吸收管(13)的外部。

4.根据权利要求1所述的一种低温二氧化硅加工设备,其特征在于:所述吸收孔(14)呈环形等间距均匀分布于吸收管(13)的外部,所述循环管(15)与回流管(16)的管径相等。

5.根据权利要求1所述的一种低温二氧化硅加工设备,其特征在于:所述回流箱(11)的内部设置有正面与背面均贯穿回流箱(11)的辅助管,所述辅助管的内部固定安装有交错设置并与回流箱(11)内部连通的连接管。

6.根据权利要求1所述的一种低温二氧化硅加工设备,其特征在于:所述进水管(8)与出水管(9)的内径相等,所述支撑腿(6)的底部均设置有固定脚。

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