[实用新型]一种低温二氧化硅加工设备有效

专利信息
申请号: 201920428351.0 申请日: 2019-12-07
公开(公告)号: CN210103471U 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 许荣明 申请(专利权)人: 福建通源硅业有限公司
主分类号: C01B33/12 分类号: C01B33/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 低温 二氧化硅 加工 设备
【说明书】:

实用新型涉及二氧化硅生产技术领域,且公开了一种低温二氧化硅加工设备,包括罐体,所述罐体的顶部固定安装有罐盖,所述罐体的内部固定安装有第一隔离板,所述罐体的内部固定安装有位于第一隔离板下方的第二隔离板,所述罐体的内部固定安装有位于第二隔离板下方的第三隔离板,所述罐体的底部固定安装有数量为四个的支撑腿,所述罐体的左侧插装有延伸至第一隔离板上方的进料管。该低温二氧化硅加工设备,冷却液可通过回流管回收重复利用,而原料溶液通过出料管进入下一道加工工序,结构简单合理,生产成本较低,便于维护与维修,同时内部循环资源利用率较高,使得二氧化硅后续生产成本降低。

技术领域

本实用新型涉及二氧化硅生产技术领域,具体为一种低温二氧化硅加工设备。

背景技术

二氧化硅,化学术语,纯的二氧化硅无色,常温下为固体,化学式为SiO2,不溶于水,不溶于酸,但溶于氢氟酸及热浓磷酸,能和熔融碱类起作用,自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅两种,二氧化硅用途很广泛,主要用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、气凝胶毡、硅铁、型砂、单质硅、水泥等,在古代,二氧化硅也用来制作瓷器的釉面和胎体,一般的石头主要由二氧化硅、碳酸钙构成。

二氧化硅在生产过程中需要经过高温反应,反应后即需进行冷却再进行后续加工,而传统的低温二氧化硅加工设备结构复杂,成本较为高昂,同时内部资源循环利用率较低,生产成本较高,故而提出了一种低温二氧化硅加工设备来解决上述提出的问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种低温二氧化硅加工设备,具备结构简单等优点,解决了传统的低温二氧化硅加工设备结构复杂,成本较为高昂,同时内部资源循环利用率较低,生产成本较高的问题。

(二)技术方案

为实现上述结构简单的目的,本实用新型提供如下技术方案:一种低温二氧化硅加工设备,包括罐体,所述罐体的顶部固定安装有罐盖,所述罐体的内部固定安装有第一隔离板,所述罐体的内部固定安装有位于第一隔离板下方的第二隔离板,所述罐体的内部固定安装有位于第二隔离板下方的第三隔离板,所述罐体的底部固定安装有数量为四个的支撑腿,所述罐体的左侧插装有延伸至第一隔离板上方的进料管,所述罐体的左侧固定安装有与罐体的内部连通并位于第一隔离板与第二隔离板相对一侧的进水管,所述罐体的右侧固定安装有与罐体的内部连通并位于第一隔离板与第二隔离板相对一侧的出水管,所述进料管的外部连通有依次贯穿第一隔离板、第二隔离板与第三隔离板的冷却管,所述第二隔离板的底部固定安装有回流箱,所述回流箱的右侧连通有右侧贯穿罐体并延伸至罐体外部的出料管,所述回流箱的底部连通有贯穿第二隔离板并延伸至罐体内壁底部的吸收管,所述吸收管的底部外壁设置有吸收孔,所述罐体的内部固定安装有一端贯穿罐体的底部且另一端贯穿第三隔离板的循环管,所述罐体的左侧固定安装有与罐体的内部连通且位于第二隔离板与第三隔离板相对一侧的回流管,所述罐体的右侧固定安装有位于第三隔离板下方的压力表。

优选的,所述罐盖与罐体通过呈环形分布的螺杆固定连接,所述支撑腿与罐体的外部通过连接座固定连接。

优选的,所述冷却管位于第一隔离板与第二隔离板相对一侧的一段呈螺旋设置,所述循环管呈螺旋设置并套接于吸收管的外部。

优选的,所述吸收孔呈环形等间距均匀分布于吸收管的外部,所述循环管与回流管的管径相等。

优选的,所述回流箱的内部设置有正面与背面均贯穿回流箱的辅助管,所述辅助管的内部固定安装有交错设置并与回流箱内部连通的连接管。

优选的,所述进水管与出水管的内径相等,所述支撑腿的底部均设置有固定脚。

(三)有益效果

与现有技术相比,本实用新型提供了一种低温二氧化硅加工设备,具备以下有益效果:

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