[实用新型]管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置有效
| 申请号： | 201920436266.9 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN209652423U | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 邹海军;吴家宏;张凯胜;姚伟忠;孙铁囤 | 申请（专利权）人： | 常州亿晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;H01L31/18 |
| 代理公司： | 32258 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 朱丽莎<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 213000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气缸 拍打 石墨舟 硅片 本实用新型 气缸缓冲器 活塞杆 加工件 复位 挡块 下端 支架 硅胶缓冲垫 活塞杆运动 工艺效率 硅片污染 上限位块 最大行程 缓冲区 良品率 破片率 上端面 管式 两组 种管 指向 伸出 替代 | ||
1.一种管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，设置在管式PECVD石墨舟上下舟的缓冲区(1)，其特征在于：所述的缓冲区(1)对应石墨舟上方固定有支架(2)，拍舟装置包括至少两组连接在支架(2)上的拍打机构，所述拍打机构沿石墨舟长度方向均匀间隔分布；所述的拍打机构包括拍打气缸(3)，所述的拍打气缸(3)的活塞杆(4)向下伸出并指向石墨舟上端面，所述拍打气缸(3)的活塞杆(4)下端面上固定有附件加工件(5)，所述附件加工件(5)的下端面上固定有硅胶缓冲垫(6)；所述的拍打气缸(3)的外壳上还固定有气缸缓冲器(7)，所述拍打气缸(3)的外壳上对应气缸缓冲器(7)上方还具有与活塞杆(4)同步运动的气缸挡块(8)，所述气缸挡块(8)与气缸缓冲器(7)之间距离为活塞杆(4)运动的最大行程；所述拍打气缸(3)的外壳对应气缸挡块(8)运动行程最上端还固定有上限位块(9)。
2.如权利要求1所述的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，其特征在于：所述的支架(2)上还设有可监测石墨舟是否留存在缓冲区(1)内的检测感应器(10)。
3.如权利要求1所述的管式PECVD石墨舟硅片复位拍舟装置，其特征在于：所述的拍打气缸(3)的活塞杆(4)伸缩方向与石墨舟上端面呈垂直设置，气缸挡块(8)的运动方向与活塞杆(4)伸缩方向平行，所述的拍打气缸(3)外壳表面具有供气缸挡块(8)伸出并运动的条型槽，所述气缸缓冲器(7)安装固定在条型槽下方的外壳上，上限位块(9)固定在条型槽上方的外壳上。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
