[实用新型]石墨盘加热用石英架

说明书

本实用新型公开了一种石墨盘加热用石英架，包括水平放置的石英大管，石英大管内壁的下侧弧面上紧贴有弯板，弯板上对称设有两根第一石英棒，弯板上方经第一石英棒卡设有石英架主体。本实用新型具有可以用于多扇大尺寸石墨盘的加热、在高温净化炉内进出拆卸便捷、石墨盘清洁效果好、使用寿命长的优点。

技术领域

本实用新型涉及一种石英架，特别是一种石墨盘加热用石英架。

背景技术

金属有机化学气相沉积设备(简称MOCVD)以热分解反应的方式在衬底上进行化学沉积反应，生长各种III-V族、II-VI族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料，石墨盘作为衬底的承载平台，在该反应过程中会有多余的化学反应残留物沉积在石墨盘表面上，假如不加以清除，必然会在新的一炉外延片生长过程中影响对应的温度控制、表面颗粒等，并最终影响到外延片生长的成品率。目前，业内对石墨盘清洁的方法多为配置一用以承载石墨盘的托架，将石墨盘连同托架一起放置于高温净化炉内，利用高温净化炉内的高温气体(带腐蚀性气体和载气)与石墨盘表面沉积物进行充分反应，实现对石墨盘表面的清洁。

目前，对小尺寸的石墨盘，已经应用有烤架或烤盘，烤架或烤盘上设置有用以固定石墨盘的弧形凹槽，只需将石墨盘垂直插入烤架或烤盘，再将整体置于高温净化炉内即可完成对石墨盘的加热，但是对于大尺寸的石墨盘，特别是直径在350mm以上的石墨盘，目前市场上还没有相应的烤架或烤盘能承载，在理论上，只需将烤架或烤盘的尺寸同比增大即可，但在实践操作中，大尺寸的石墨盘若仍然垂直插入烤架，烤架的弧形凹槽需要更大的弧度来保证石墨盘的稳定性，而且在清洁过程中，石墨盘上会有小部分的区域因陷入凹槽内而无法得到清洁；另外，在整体尺寸加大后，石墨盘的放置与取下的过程会更加困难，在石墨盘放置完毕后，其与烤架构成的整体也会因体积变大难以放入高温净化炉内。因此，亟需一种可以用于大尺寸石墨盘加热的石英架来满足目前市场上的需求。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，提供一种石墨盘加热用石英架。它具有可以用于多扇大尺寸石墨盘的加热、在高温净化炉内进出拆卸便捷、石墨盘清洁效果好、使用寿命长的优点。

本实用新型的技术方案：石墨盘加热用石英架，包括水平放置的石英大管，石英大管内壁的下侧弧面上紧贴有弯板，弯板上对称设有两根第一石英棒，弯板上方经第一石英棒卡设有石英架主体。

前述的石墨盘加热用石英架中，所述石英架主体包括等间距排列的若干层石英环，若干层石英环经若干根第二石英棒焊接连接，底层的石英环下部设有方形架。

前述的石墨盘加热用石英架中，所述第二石英棒的数量为三根，三根第二石英棒沿石英环外圈平行分布，其中两根第二石英棒在同层石英环上的焊接点连线经过该层石英环的圆心，且两个焊接点到另一根第二石英棒与石英环焊接点的距离相同。

前述的石墨盘加热用石英架中，所述石英环的数量为四个。

前述的石墨盘加热用石英架中，所述弯板的投影圆弧线所对应的圆心角大小介于120°-180°。

与现有技术相比，本实用新型整体采用石英框架的结构，主要部件包括外部的石英大管以及在石英大管内部的石英架主体，通过在石英大管内壁的下侧弧面上紧贴弯板，在弯板上对称设置两根第一石英棒，两根第一石英棒对石英架主体底部进行限位，起到稳定石英架主体的作用，同时，石英架主体可以沿着两根第一石英棒滑入石英大管内，石英大管可提前放入高温净化炉内，使石英架整体在高温净化炉内进出拆卸便捷；石英架主体为等间距排列的若干层石英环结构，石墨盘平行放置于各层石英环上，可以用于多扇大尺寸石墨盘的加热，石英环结构既减轻了重量，减少成本，又能保证受热效果良好，石英环仅挡住石墨盘下表面最边缘的环形区域，而这部分区域残留物沉积普遍较少，会使石墨盘整体的清洁效果更佳，石墨盘水平放置对稳定性要求会更小，放置后会更加稳定。