[实用新型]硅片单面抛光治具有效

专利信息
申请号: 201920483697.0 申请日: 2019-04-11
公开(公告)号: CN209461426U 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 吴佳俊;吴家宏;张凯胜;姚伟忠;孙铁囤 申请(专利权)人: 常州亿晶光电科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/683;H01L31/18
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 代理人: 郑云
地址: 213000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 硅片 治具 孔板 出气孔 外框 本实用新型 单面抛光 抽气孔 扩散面 吸附 单面刻蚀 硅片抛光 刻蚀抛光 密闭连通 抛光设备 真空吸盘 抽真空 面接触 抛光 槽式 侧壁 内壁 贴紧 外壁 遮盖 连通 环绕
【权利要求书】:

1.一种硅片单面抛光治具,用作真空吸盘,其特征在于:包括:

用于放置硅片(4)的孔板(1),所述孔板(1)的端面上密集开设有气孔(2),所述孔板侧壁上开设有出气孔(3),所述出气孔(3)与所述气孔(2)从孔板(1)的内部相互连通;放置所述硅片(4)时,气孔(2)均被硅片遮盖;

环绕孔板设置的外框(5),所述外框(5)的内壁与所述孔板(1)的外壁固定连接,所述外框上设有抽气孔(6),所述抽气孔与出气孔密闭连通。

2.根据权利要求1所述的硅片单面抛光治具,其特征在于:所述孔板(1)的两端端面上均密集开设有所述气孔(2)。

3.根据权利要求1所述的硅片单面抛光治具,其特征在于:所述孔板(1)的内部设有空心层,所述出气孔(3)通过空心层与所述气孔(2)连通。

4.根据权利要求1所述硅片单面抛光治具,其特征在于:所述相邻两个气孔(2)之间的侧壁上开设有通孔,用于所述气孔之间的连通;所述出气孔(3)与与之相邻的气孔(2)之间开设有通孔,用于出气孔(3)与该气孔(2)之间的连通。

5.根据权利要求1所述硅片单面抛光治具,其特征在于:所述出气孔(3)有两个且相对设置在所述孔板(1)的侧壁上;所述抽气孔(6)有两个且与所述出气孔(3)配合设置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州亿晶光电科技有限公司,未经常州亿晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920483697.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top