[实用新型]光学指纹装置和电子设备

权利要求书

1.一种光学指纹装置，其特征在于，包括：

光学指纹芯片，用于接收指纹检测信号，所述指纹检测信号用来检测手指的指纹信息；

滤光结构，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片上方。

2.根据权利要求1所述的光学指纹装置，其特征在于，所述滤光结构包括第一滤光层，所述第一滤光层包括多个子层，所述多个子层在10层到200层之间。

3.根据权利要求2所述的光学指纹装置，其特征在于，所述多个子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

4.根据权利要求2所述的光学指纹装置，其特征在于，所述第一滤光层的厚度小于或等于20um。

5.根据权利要求1所述的光学指纹装置，其特征在于，所述滤光结构包括：

第二滤光层，蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片上方；

支撑层，蒸镀或溅射在所述第二滤光层上方；

第三滤光层，蒸镀或溅射在所述支撑层上方，所述支撑层用于支撑所述第三滤光层。

6.根据权利要求5所述的光学指纹装置，其特征在于，所述第二滤光层包括多个第一子层，所述多个第一子层在10层到200层之间；

所述第二滤光层包括多个第二子层，所述多个第二子层在10层到200层之间。

7.根据权利要求6所述的光学指纹装置，其特征在于，所述多个第一子层包括硅的氧化层和钛的氧化层，所述多个第二子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

8.根据权利要求5至7中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述支撑层的厚度小于或等于10um。

9.根据权利要求5至7中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述支撑层对光信号的透过率大于80％。

10.根据权利要求5至7中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述滤光结构的厚度不超过20um。

11.根据权利要求1至7中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片的感应阵列上方。

12.一种光学指纹装置，其特征在于，包括：

光学指纹芯片，用于接收指纹检测信号，所述指纹检测信号用来检测手指的指纹信息；

透明基底，设置在所述光学指纹芯片上方，其中，所述透明基底的厚度不超过50um；

滤光结构，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述透明基底上方。

13.根据权利要求12所述的光学指纹装置，其特征在于，所述滤光结构包括多个子层，所述多个子层在10层到200层之间。

14.根据权利要求13所述的光学指纹装置，其特征在于，所述多个子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述透明基底为玻璃基底或水晶基底。

16.根据权利要求12至14中任一项所述的光学指纹装置，其特征在于，所述光学指纹装置还包括：

粘合层，用于连接所述光学指纹芯片和所述透明基底。

17.一种电子设备，其特征在于，包括：

显示屏；

如权利要求1至11中任一项所述的光学指纹装置，其中，所述光学指纹装置设置于所述显示屏下方。

18.一种电子设备，其特征在于，包括：

显示屏；

如权利要求12至16中任一项所述的光学指纹装置，其中，所述光学指纹装置设置于所述显示屏下方。