[实用新型]光学指纹装置和电子设备

说明书

本申请提供了一种光学指纹装置和电子设备，能够降低光学指纹装置的厚度，该光学指纹装置包括：光学指纹芯片，用于接收指纹检测信号，所述指纹检测信号用来检测手指的指纹信息；滤光结构，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片上方。

技术领域

本申请涉及指纹识别技术领域，并且更具体地，涉及光学指纹装置和电子设备。

背景技术

随着手机全面屏技术的发展，指纹识别模组需要设置在屏下，但屏下的空间有限，这就对指纹识别模组的尺寸、空间厚度都提出了更高的要求。

当前主流的光学指纹模组主要构成部件有透镜，滤光片和光学指纹芯片等，其中，滤光片是采用在玻璃基底材料上蒸镀滤光层形成的。屏幕越大，所需的滤光片也越大，如果采用较薄的玻璃基底，制备过程中非常容易碎片，造成产品的低良率，因此，用于大面积指纹识别的光学指纹装置通常采用厚度在200um以上的玻璃基底，增大了整个光学指纹装置的厚度。

实用新型内容

本申请提供一种光学指纹装置，能够降低光学指纹装置的厚度。

第一方面，提供了一种光学指纹装置，包括：

光学指纹芯片，用于接收指纹检测信号，所述指纹检测信号用来检测手指的指纹信息；

滤光结构，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片上方。

在一些可能的实现方式中，所述滤光结构包括第一滤光层，所述第一滤光层包括多个子层，所述多个子层在10层到200层之间。

在一些可能的实现方式中，所述多个子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

在一些可能的实现方式中，所述第一滤光层的厚度小于20um。

在一些可能的实现方式中，所述滤光结构包括：

第二滤光层，蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片上方；

支撑层，蒸镀或溅射在所述第二滤光层上方；

第三滤光层，蒸镀或溅射在所述支撑层上方。

在一些可能的实现方式中，所述第二滤光层包括多个第一子层，所述多个第一子层在10层到200层之间；

所述第二滤光层包括多个第二子层，所述多个第二子层在10层到200层之间。

在一些可能的实现方式中，所述多个第一子层包括硅的氧化层和钛的氧化层，所述多个第二子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

在一些可能的实现方式中，所述支撑层的厚度在10um以内。

在一些可能的实现方式中，所述支撑层对光信号的透过率大于80％。

在一些可能的实现方式中，所述滤光结构的厚度不超过20um。

在一些可能的实现方式中，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述光学指纹芯片的感应阵列上方。

第二方面，提供了一种光学指纹装置，包括：

光学指纹芯片，用于接收指纹检测信号，所述指纹检测信号用来检测手指的指纹信息；

透明基底，设置在所述光学指纹芯片上方，其中，所述透明基底的厚度不超过50um；

滤光层，所述滤光结构蒸镀或溅射在所述透明基底上方。

在一些可能的实现方式中，所述滤光层包括多个子层，所述多个子层在10层到200层之间。

在一些可能的实现方式中，所述多个子层包括硅的氧化层和钛的氧化层。

在一些可能的实现方式中，所述透明基底为玻璃基底或水晶基底。