[实用新型]晶圆扫描装置及晶圆处理设备

说明书

该实用新型涉及一种晶圆扫描装置及晶圆处理设备，其中晶圆扫描装置包括：扫描喷头，用于通入溶液，并控制通入的溶液与被扫描的晶圆接触，以实现对晶圆的扫描；真空吸附单元，安装至扫描喷头，用于防止扫描喷头内的溶液流出至被扫描的晶圆表面；注射泵，通过连接管路连通至扫描喷头，用于回收扫描喷头内的溶液；第一流量计，设置到扫描喷头，用于统计流至扫描喷头的溶液流量，以及自扫描喷头流出的溶液的流量；第二流量计，设置到注射泵，用于统计流至注射泵的溶液流量，以及自注射泵流出的溶液的流量。上述晶圆扫描装置及晶圆处理设备提高了晶圆扫描机台以及晶圆处理设备的产能。

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产加工领域，具体涉及一种晶圆扫描装置及晶圆处理设备。

背景技术

在晶圆制造的过程中，经常需要用到扫描喷头来扫描晶圆，以获取晶圆表面的情况。同时，在完成对晶圆表面的扫描后，通常也需要回收扫描喷头内的溶液，从而便于进行下一步的工艺处理。

如在VPD-ICPMS(Vapor Phase Decomposition-Inductively coupled plasmamass spectrometry，全自动晶圆表面气相分解-电感耦合等离子体质谱仪)的机台中，使用扫描喷头后就需要对扫描喷头内的液体进行回收。现有技术中，对扫描喷头内的液体进行回收的效果不佳，需要在回收完成后再进行检查，耗时良久，影响机台对晶圆的后续处理，并影响机台产能。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆扫描装置及晶圆处理设备，能够更好的完成对扫描喷头内的溶液的回收。

为解决上述技术问题，以下提供了一种晶圆扫描装置，包括：扫描喷头，用于通入溶液，并控制通入的溶液与被扫描的晶圆接触，以实现对晶圆的扫描；真空吸附单元，安装至所述扫描喷头，用于防止所述扫描喷头内的溶液流出至被扫描的晶圆表面；注射泵，通过连接管路连通至所述扫描喷头，用于回收扫描喷头内的溶液；第一流量计，设置到所述扫描喷头，用于统计流至所述扫描喷头的溶液流量，以及自所述扫描喷头流出至所述注射泵的溶液的流量；第二流量计，设置到所述注射泵，用于统计流至所述注射泵的溶液流量，以及自所述注射泵向外流出的溶液的流量。

可选的，还包括：控制单元，连接至所述第一流量计和第二流量计，用于对所述第一流量计和第二流量计的统计结果进行比较。

可选的，所述控制单元对所述第一流量计和第二流量计的统计结果进行的比较包括：比较流至所述扫描喷头的溶液流量和自所述扫描喷头流出至所述注射泵的溶液的流量，判断是否有溶液残留在所述扫描喷头内；比较流至所述注射泵的溶液流量和自所述注射泵向外流出的溶液的流量，判断是否有溶液残留在所述注射泵内；比较自所述扫描喷头流出至所述注射泵的溶液的流量和比较流至所述注射泵的溶液流量，判断是否有溶液残留在所述扫描喷头和注射泵之间的连接管路内。

可选的，还包括：报警单元，连接至所述控制单元，用于在所述控制单元获取到的比较结果为有溶液残留在所述扫描喷头内，或有溶液残留在所述注射泵内，或有溶液残留在所述扫描喷头和注射泵之间的连接管路内中的任意一种时，发出警报。

可选的，所述报警单元包括蜂鸣器和LED灯中的至少一种。

可选的，还包括：采样杯，连通至所述注射泵，用于放置被所述注射泵回收的溶液。

为解决上述技术问题，以下还提供了一种晶圆处理设备，包括：晶圆扫描装置，包括：扫描喷头，用于通入溶液，并控制通入的溶液与被扫描的晶圆接触，以实现对晶圆的扫描；真空吸附单元，安装至所述扫描喷头，用于防止所述扫描喷头内的溶液流出至被扫描的晶圆表面；注射泵，通过连接管路连通至所述扫描喷头，用于回收扫描喷头内的溶液；第一流量计，设置到所述扫描喷头，用于统计流至所述扫描喷头的溶液流量，以及自所述扫描喷头流出至所述注射泵的溶液的流量；第二流量计，设置到所述注射泵，用于统计流至所述注射泵的溶液流量，以及自所述注射泵向外流出的溶液的流量。