[实用新型]一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构

权利要求书

1.一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，包括：气管、环绕气管设置的磁体以及位于气管与磁体之间的磁流体，其中磁体包括第一久磁铁、第二久磁铁、第一极靴和第二极靴，第一极靴和第二极靴分别具有第一端和第二端，第一久磁铁位于第一极靴的第一端与第二极靴的第一端之间，第二久磁铁位于第一极靴的第二端与第二极靴的第二端之间，以使第一久磁铁、第二久磁铁、第一极靴和第二极靴构成一环绕气管设置的环形，且在气管与磁体之间存在间隙，并磁流体位于所述间隙内。

2.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，环绕所述气管设置的所述磁体形成磁性回路。

3.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，所述第一极靴和第二极靴为弧形，弧形所述第一极靴和第二极靴与第一久磁铁和第二久磁铁共同构成环绕气管设置的磁体。

4.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，在第一极靴和第二极靴的第一端与第二端之间分别包括向气管方向延伸的第一突出磁铁和第二突出磁铁，第一突出磁铁与第二突出磁铁之间具有一间隙，所述磁流体设置在第一突出磁铁与第二突出磁铁之间的间隙内。

5.根据权利要求4所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，第一突出磁铁和第二突出磁铁环绕气管设置。

6.根据权利要求4或5任一项所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，第一极靴和第一突出磁铁一体成型，第二极靴和第二突出磁铁一体成型。

7.根据权利要求3或4任一项所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，第一久磁铁和第二久磁铁分别包括一N极和一S极，所述第一极靴的第一端和第二端分别连接第一久磁铁和第二久磁铁的S极；所述第二极靴的第一端和第二端分别连接第一久磁铁和第二久磁铁的N极。

8.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，磁流体为包括磁性固体颗粒的胶状液体。

9.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构的泄漏率10-10Pa.m3/sec。

10.根据权利要求1所述的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，其特征在于，AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构用于对AMAT EtchCentura AP平台设备中的预对准器的真空管路进行密封。