[实用新型]一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构

说明书

本实用新型提供一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，涉及集成电路生产设备，通过环绕气管设置的磁体以及位于气管与磁体之间的磁流体构成AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，能够有效达到真空密封效果，同时不会在高速运动中损伤密封部件，使晶圆传输过程中不出现移动现象，以避免密封不良导致的真空压力下降报警，硅片对准异常报警，硅片滑片报警，减少AMAT Etch Centura AP平台设备的停机(down)次数，提升AMAT Etch Centura AP平台设备的正常运行时间(uptime)，增加FAB产能。

技术领域

本实用新型涉及一种集成电路生产设备，尤其涉及一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构。

背景技术

AMAT Etch Centura AP平台设备属于一种集成电路生产设备，其主要用于硅及高介电材料刻蚀等工艺。该平台的晶圆装载部分称作FI系统，FI系统中的用于确定硅片缺口(Notch)位置的缺口预对准器(Notch Pre-aligner)模块安装在FI框架上，它通过底座真空吸附固定硅片，底座旋转，CCD检测确定Notch位置。请参阅图1，图1为 AMAT Etch CenturaAP平台设备一内部示意图，如图1所示AMAT Etch Centura AP平台设备包括两个机器手臂(robots)以及一预对准器(Pre-aligner)。具体的，预对准器包括底座和提供真空的管路，用于固定硅片，固定硅片的底座需要真空供给VAC-70± 5kPa并需要快速转动，提供真空的管路同样需要高速转动，所以真空管路使用高速旋转气管，高速旋转气管连接处由于旋转运动易导致密封圈破坏而导致密封失效，进而导致真空压力下降报警，硅片的吸附会导致移位报警，整机停机。

具体的，请参阅图2a和图2b，图2a为一高速旋转气管密封结构正视图，图2b为一高速旋转气管密封结构剖视图，如图2a和图2b所示，高速旋转气管密封结构包括气管 110、气管外壁120和位于气管110与气管外壁120之间的密封圈130，长时间使用后密封圈130会磨损，而导致真空的管路漏气。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，能够有效达到真空密封效果，减少AMAT Etch Centura AP平台设备的停机(down)次数，提升AMAT Etch Centura AP平台设备的正常运行时间(uptime)，增加 FAB产能。

本实用新型提供的AMAT Etch Centura AP平台设备的高速旋转气管密封结构，包括：气管、环绕气管设置的磁体以及位于气管与磁体之间的磁流体，其中磁体包括第一久磁铁、第二久磁铁、第一极靴和第二极靴，第一极靴和第二极靴分别具有第一端和第二端，第一久磁铁位于第一极靴的第一端与第二极靴的第一端之间，第二久磁铁位于第一极靴的第二端与第二极靴的第二端之间，以使第一久磁铁、第二久磁铁、第一极靴和第二极靴构成一环绕气管设置的环形，且在气管与磁体之间存在间隙，并磁流体位于所述间隙内。

更进一步的，环绕所述气管设置的所述磁体形成磁性回路。

更进一步的，所述第一极靴和第二极靴为弧形，弧形所述第一极靴和第二极靴与第一久磁铁和第二久磁铁共同构成环绕气管设置的磁体。

更进一步的，在第一极靴和第二极靴的第一端与第二端之间分别包括向气管方向延伸的第一突出磁铁和第二突出磁铁，第一突出磁铁与第二突出磁铁之间具有一间隙，所述磁流体设置在第一突出磁铁与第二突出磁铁之间的间隙内。

更进一步的，第一突出磁铁和第二突出磁铁环绕气管设置。

更进一步的，第一极靴和第一突出磁铁一体成型，第二极靴和第二突出磁铁一体成型。