[实用新型]应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统

权利要求书

1.一种应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于，包括配药槽、储存槽、抽水泵、药水缸、抽药泵、PLC控制程序电磁阀、若干连接管及循环泵；所述配药槽、储存槽及药水缸通过连接管依次相连，所述抽水泵安装在配药槽与储存槽之间的连接管上；所述药水缸上设有主槽及副槽，所述副槽通过连接管与主槽相连，所述循环泵设置在副槽及主槽的之间的连接管上，所述副槽与储存槽通过连接管相连，所述PLC控制程序电磁阀及抽药泵安装在副槽与储存槽之间的连接管上，所述副槽内还设有铜离子检测装置，所述铜离子检测装置检测副槽内铜离子含量并分析出需添加药水量，所述PLC控制程序电磁阀接收铜离子检测装置的信号并开启相应的添加量，所述抽药泵将储存槽的药水抽至副槽内；同时，所述循环泵将副槽及主槽内的药水循环交替。

2.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述配药槽内设有配药槽搅拌器、进水管、排水管、加药提醒报警器及补水正常液位提醒报警器。

3.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述铜离子检测装置包括铜离子分析仪及铜离子探头，所述铜离子探头延伸于所述副槽内，该铜离子探头检测副槽内药水中铜离子含量并将数据信息传输至铜离子分析仪进行数据分析。

4.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述副槽上还设有一铜离子感应探头，所述铜离子感应探头与所述PLC控制程序电磁阀电性连接。

5.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述储存槽上还设有高液位报警器及储存槽溢流口。

6.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述副槽上设有副槽溢流口，所述主槽内设置有标准液位，所述副槽溢流口与主槽的标准液位平行。

7.如权利要求1所述的应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其特征在于：所述储存槽及副槽分别设有储存槽搅拌器及副槽搅拌器。