[实用新型]应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统

说明书

一种应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其包括配药槽、储存槽及药水缸。药水缸上设置有主槽及副槽，主槽与副槽之间设有循环泵；副槽与储存槽之间的连接管上设置有抽药泵，储存槽与配药槽之间设置有抽水泵；副槽内还设置有铜离子分析仪及铜离子感应探头,抽水泵将药水抽至储存槽内，再铜离子分析仪将数据传输至PLC控制程序电磁阀，从而设定每次的加药量，PLC控制程序电磁阀打开并按照设定添加量，通过抽药泵将储存槽内的药水抽入至副槽内，最后通过循环泵将副槽内的药水抽入到主槽内交替循环从而维持铜离子的稳定。最终达到提高产能、避免在线换缸对生产员工的安全隐患的目的。

技术领域

本实用新型涉及一种自动加药系统，尤其涉及一种应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统。

背景技术

在PCB垂直沉铜流程工艺中，为确保垂直沉铜线相关(ICD/分层等)品质，需将中和、微蚀药水中的铜离子控制在一定范围。传统的控制方法为采用手动在线上换缸或提前配药暂存、定时抽入换缸，然而，该种控制方法存在如下弊端：①生产空缸损失产能，②空缸过久沉铜缸活性下降、需要挂拖缸板损失产能，③在线换缸对生产员工有安全隐患，④铜离子控制不稳定、存在品质隐患，⑤需要建立机制提醒生产人员按时换缸，⑥因生产过程中造成药水消耗，工作人员需要按一定尺数手动添加。

实用新型内容

为此，本实用新型的目的在于提供一种应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，以提高产能、避免在线换缸对生产员工的安全隐患。

为实现上述目的，本实用新型主要采用以下技术方案为：

一种应用垂直沉铜线控制微蚀中和药水缸铜离子的加药系统，其包括配药槽、储存槽、抽水泵、药水缸、抽药泵、PLC控制程序电磁阀、若干连接管及循环泵；所述配药槽、储存槽及药水缸通过连接管依次相连，所述抽水泵安装在配药槽与储存槽之间的连接管上；所述药水缸上设有主槽及副槽，所述副槽通过连接管与主槽相连，所述循环泵设置在副槽及主槽的之间的连接管上，所述副槽与储存槽通过连接管相连，所述PLC控制程序电磁阀及抽药泵安装在副槽与储存槽之间的连接管上，所述副槽内还设有铜离子检测装置，所述铜离子检测装置检测副槽内铜离子含量并分析出需添加药水量，所述PLC控制程序电磁阀接收铜离子检测装置的信号并开启相应的添加量，所述抽药泵将储存槽的药水抽至副槽内；同时，所述循环泵将副槽及主槽内的药水循环交替。

进一步地，所述配药槽内设有配药槽搅拌器、进水管、排水管、加药提醒报警器及补水正常液位提醒报警器。

进一步地，所述铜离子检测装置包括铜离子分析仪及铜离子探头，所述铜离子探头延伸于所述副槽内，该铜离子探头检测副槽内药水中铜离子含量并将数据信息传输至铜离子分析仪进行数据分析。

进一步地，所述副槽上还设有一铜离子感应探头，所述铜离子感应探头与所述PLC控制程序电磁阀电性连接。

进一步地，所述储存槽上还设有高液位报警器及储存槽溢流口。

进一步地，所述副槽上设有副槽溢流口，所述主槽内设置有标准液位，所述副槽溢流口与主槽的标准液位平行。

进一步地，所述储存槽及副槽分别设有储存槽搅拌器及副槽搅拌器。

综上所述，本实用新型通过设置配药槽、储存槽及药水缸，在配药槽内手工配好药水后，经过抽水泵将药水抽至储存槽内，再经过药水缸上的铜离子感应探头感应铜离子的具体比例，并传输至铜离子分析仪，所述铜离子分析仪将分析后的数据传输至PLC控制程序电磁阀，从而设定每次的加药量，所述PLC 控制程序电磁阀打开并按照设定添加量，通过抽药泵将储存槽内的药水抽入至所述副槽内，最后通过循环泵将副槽内的药水抽入到主槽内交替循环从而维持铜离子的稳定。最终达到提高产能、避免在线换缸对生产员工的安全隐患的目的。实用性强，具有较强的推广意义。

附图说明