[实用新型]一种用于研磨抛光设备的供液装置有效
申请号: | 201920524112.5 | 申请日: | 2019-04-17 |
公开(公告)号: | CN209919660U | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 陈帅;曲迪;白国人;王磊;陈墨;李淼 | 申请(专利权)人: | 天津华慧芯科技集团有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02 |
代理公司: | 12101 天津市鼎和专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蒙建军 |
地址: | 300467 天津市滨海新区生态城*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨抛光设备 液体溶剂 料筒 蠕动泵 转轴 本实用新型 供液装置 半导体制备 浓度均匀性 存储液体 动力机构 端口连接 连接通孔 料筒内腔 中心轴处 喷液头 引流管 圆柱桶 溶剂 侧边 供料 扇叶 有向 连通 保证 | ||
本实用新型公开了一种用于研磨抛光设备的供液装置,涉及半导体制备技术领域,用于向研磨抛光设备提供连续或离散的液体溶剂,包括存储液体溶剂的料筒;其特征在于:所述料筒为圆柱桶装结构;在所述料筒的中心轴处设置有转轴;在上述转轴上安装有对液体溶剂进行搅拌用的扇叶;所述用于研磨抛光设备的供液装置还包括:带动上述转轴动作的动力机构;控制供料速率的蠕动泵;其中:在上述料筒的底部或者侧边开设有连接通孔;所述蠕动泵的第一端口通过引流管与料筒内腔连通;所述蠕动泵的第二端口连接有向研磨抛光设备提供连续或离散液体溶剂的喷液头。通过采用上述技术方案,本实用新型既能够保证液体溶剂的浓度均匀性,同时能够实现对流速的精确控制。
技术领域
本实用新型涉及半导体制备技术领域,特别是涉及到一种用于研磨抛光设备的供液装置。
背景技术
众所周知,研磨抛光是一种表面加工工艺,有获得所需尺寸及表面质量的作用。在次过程中,经常需要使用到切削剂、抛光剂和防锈剂;其中:抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。产品性能稳定、无毒,对环境无污染等作用,用水性防锈剂是一种水基防锈溶液,可有效的保护钢、铁等材料,防止生锈。
近年来,随着科技的快速发展,在半导体制造中,研磨抛光工艺使用越来越广泛;在传统的研磨抛光中,需要向研磨抛光设备提供连续或离散的液体溶剂,目前采用的技术方案是,将液体溶剂提前预存于料筒中,然后利用引流管将液体溶剂引导至研磨抛光设备的工作面处;通过实践发现,这种传统技术存在如下的缺陷:一、由于重力沉淀的因素,液体溶剂的浓度不均匀,一般表现为料筒底部的浓度大,向上浓度逐渐降低;二、由于传统技术主要是依靠引流管上的阀门或者是开关来控制供给速率,因此很难满足高标准研磨抛光工艺对流速的控制。所以,设计开发一种既能够保证液体溶剂的浓度均匀性,同时精确保证流速的用于研磨抛光设备的供液装置显得是尤为重要。
实用新型内容
本实用新型针对现有技术中存在的上述技术问题,提供了一种既能够保证液体溶剂的浓度均匀性,同时精确保证流速的用于研磨抛光设备的供液装置。
本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是:
一种用于研磨抛光设备的供液装置,用于向研磨抛光设备提供连续或离散的液体溶剂,包括存储液体溶剂的料筒;所述料筒为圆柱桶装结构;
在所述料筒的中心轴处设置有转轴;在上述转轴上安装有对液体溶剂进行搅拌用的扇叶;
所述用于研磨抛光设备的供液装置还包括:
带动上述转轴动作的动力机构;
控制供料速率的蠕动泵;其中:
在上述料筒的底部或者侧边开设有连接通孔;所述蠕动泵的第一端口通过引流管与料筒内腔连通;所述蠕动泵的第二端口连接有向研磨抛光设备提供连续或离散液体溶剂的喷液头。
进一步:所述引流管和喷液头均为橡胶管。
更进一步:所述扇叶的长度小于料筒的内半径;所述扇叶的轴截面为C形。
更进一步:所述扇叶与转轴相互垂直,所述扇叶的一端固定于转轴上。
更进一步:所述转轴上固定有两个或三个扇叶。
更进一步:所述两个或三个扇叶位于同一水平面上。
更进一步:所述两个或三个扇叶位于不同的水平面上。
进一步:所述动力机构为固定于转轴上端部的摇臂。
进一步:所述动力机构包括电机,所述电机的电机轴与转轴上端部固定连接。本实用新型具有的优点和积极效果是:
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