[实用新型]一种立式真空镀膜炉

权利要求书

1.一种立式真空镀膜炉，其特征在于，包括真空室（1）、真空镀膜室（2）、低真空系统（3）、高真空系统（4）、维护系统（5）和输送装置（6），所述低真空系统（3）和高真空系统（4）位于真空室（1）的左端并且与真空室（1）相连通，所述真空镀膜室（2）位于真空室（1）的右端并且与真空室（1）相连通，所述维护系统（5）位于真空室（1）的上端并且与真空室（1）相连通，所述输送装置（6）连接在真空镀膜室（2）的后端。

2.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述低真空系统（3）包括低速扩散泵（17）、低速罗茨泵（18）、低速电机（19）、低速粗抽泵（20）和第二抽气炉（21），所述低速扩散泵（17）、低速罗茨泵（18）和低速粗抽泵（20）均通过低速电机（19）与第二抽气炉（21）连通，所述第二抽气炉（21）通过连接管与真空室（1）连接为一体。

3.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述高真空系统（4）包括高转速电机（12）、高速扩散泵（13）、高速罗茨泵（14）、高速粗抽泵（15）和第一抽气炉（16），所述速扩散泵（13）、高速罗茨泵（14）和高速粗抽泵（15）均通过高转速电机（12）与第一抽气炉（16）连接为一体，所述第一抽气炉（16）通过连接管与真空室（1）连接为一体。

4.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述维护系统（5）包括维护电机（7）、维护维持泵（8）、维护罗茨泵（9）、维护扩散泵（10）和维护粗抽泵（11），所述维护维持泵（8）、维护罗茨泵（9）、维护扩散泵（10）和维护粗抽泵（11）均通过维护电机（7）与真空室（1）连接为一体。

5.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述输送装置（6）包括第一分输送装置（22）、第二分输送装置（23）、输送架（31）和机械抓臂（26），所述第一分输送装置（22）固定在输送架（31）上部，所述第二分输送装置（23）固定在第一分输送装置（22）的上端，所述机械抓臂（26）固定在第二分输送装置（23）的上端。

6.根据权利要求5所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第一分输送装置（22）包括第一输送电机（24）和第一输送板（25），所述第一输送电机（24）固定在输送架（31）的上端侧壁，所述第一输送板（25）活动连接在输送架（31）的上表面并且通过输送链和输送滚轮与第一输送电机（24）连接。

7.根据权利要求5所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第二分输送装置（23）包括第二输送电机（27）和输送块（29），所述第二输送电机（27）固定在第一输送板（25）的侧端，所述输送块（29）活动连接在第一输送板（25）的输送空腔（30）并且通过输送链和输送滚轮与第二输送电机（27）连接，所述输送块（29）的上端连接着机械抓臂（26）。

8.根据权利要求7所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，所述第二分输送装置（23）还包括支撑板（28），所述支撑板（28）固定在第一输送板（25）的上表面前后两端。

9.根据权利要求1所述的一种立式真空镀膜炉，其特征在于，还包括控制面板（32），所述控制面板（32）固定在输送装置（6）的侧端。