[实用新型]一种PVD镀膜装置有效
申请号: | 201920598548.9 | 申请日: | 2019-04-28 |
公开(公告)号: | CN210560694U | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 孙一藻;黄晓容;陈世华;操全军;柯树浩;赖路军;李挺;袁恒 | 申请(专利权)人: | 东莞市聚龙高科电子技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/54 |
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地址: | 523820 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pvd 镀膜 装置 | ||
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种PVD镀膜装置,它包括镀膜仓,本实用新型通过调节排气硬管的位置,可调节样板和喷头间的距离,以适应不同材质的膜料和样板,从而降低膜料和耗材的消耗,降低生产成本;通过抽真空后对样板进行预热,能够使样板的表面吸附的气体脱附,再二次抽真空,从而提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力;通过设置有电磁阀,能够在镀膜完成后快速切断蒸汽,防止镀膜增厚;通过在镀膜仓的内壁及内部元件的外壁上涂覆有一层耐高温防粘涂层,能够防止油污和残余镀料等粘附,难以清洁;通过设置有真空计能够对镀膜仓内的真空度进行监测。
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种PVD镀膜装置。
背景技术
PVD技术在进行实施的过程当中,是通过对某种物理机制加以应用来在相关物体表面形成一层薄膜。常用的镀膜方法为真空蒸发镀膜,是指在真空条件下,采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化,粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法现有的真空蒸镀设备,例如中国专利公开的一种简易的PVD真空镀膜装置,申请号:201820205326.1,它,包括镀膜仓,所述镀膜仓顶部铰接有密封盖,所述镀膜仓的底部设有支撑架,所述支撑架的顶部安装有真空泵,所述真空泵的抽气口与镀膜仓内部连通,所述镀膜仓内部底端设有加热机构,所述加热机构上方镀膜仓内部水平连接有支撑板,所述支撑板上开设有安装口,所述安装口内部固定安装有风罩,所述风罩开口朝下,所述风罩内部安装有风扇,所述风罩上方设有镀膜机构,所述镀膜机构包括排气硬管,所述排气硬管顶部设有喷头,所述排气硬管的两端底部均设有第一滑块,所述排气硬管与第一滑块之间通过第二卡环固定连接,两个所述第一滑块分别滑动安装在滑杆上,所述滑杆水平固定连接在镀膜仓两端的内壁上,所述排气硬管与风罩之间通过两根排气软管连通,两根滑杆之间设有驱动机构,在所述喷头的上方镀膜仓两端的内壁上对称安装有限位板,两块所述限位板顶部共同安装有样板,所述样板上表面设有多个夹紧装置,该实用新型,结构简单,使用方便,镀膜均匀,使用效果好,有效的提高了镀膜效率,但是仍存在不足:(1)由于蒸镀装置是将蒸镀源固定在腔体下方,进行从下而上蒸镀,但是对于不同膜料,不同样板无法进行调节蒸镀源与样板的距离,会产生膜厚度大,功率高,时间长,膜料消耗量大,耗材成本高,(2)在蒸镀之前没有对样板进行预热,在高真空下加热样板,能够使样板的表面吸附的气体脱附。然后经真空泵抽气排出真空室,有利于提高镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。(3)镀膜仓的内壁需要经常进行清洁,防止粘附在内壁上的油污、锈迹和残余镀料,清洁难度大;(4)无法对喷射源进行快速切断,会导致镀膜厚度增加。
发明内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供一种能够调节镀膜源与样板距离且内壁便于清洁的PVD镀膜装置。
本实用新型的技术方案为:一种PVD镀膜装置,其特征在于:它包括镀膜仓,所述镀膜仓顶部铰接有密封盖,所述镀膜仓的底部设有支撑架,所述支撑架的底部安装有真空泵,所述真空泵的抽气口与镀膜仓内部连通,所述镀膜仓内部底端设有加热机构,所述加热机构上方镀膜仓内部水平连接有支撑板,所述支撑板上开设有安装口,所述安装口内部固定安装有风罩,所述风罩开口朝下,所述风罩内部安装有风扇,所述风罩上方设有镀膜机构,所述镀膜机构包括排气硬管、喷头和排气软管,所述排气硬管顶部设有喷头,所述排气硬管的套入设置在滑块的通孔内,所述滑块的侧壁上设置有螺纹孔,所述螺纹孔上安装有紧固螺栓,所述滑块设置在丝杆滑台上,所述丝杆滑台的一端伸出镀膜仓外并连接有电机,所述排气硬管与风罩之间通过两根排气软管连通,所述喷头的上方镀膜仓两端的内壁上对称安装有限位板,所述限位板内设置有用于注入加热液的空腔,同时限位板的侧壁上配合设置有加热液循环管路,两块所述限位板顶部共同安装有样板,所述样板上表面设有多个夹紧装置。
进一步的,所述支撑架底部设有电瓶盒,所述电瓶盒内部安装有蓄电瓶,所述真空泵、电机和风扇均通过导线与蓄电瓶连接,且所述真空泵与蓄电瓶之间的导线上安装有开关。
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