[实用新型]一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置

权利要求书

1.一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶端四角均固定安装有立柱(2),所述立柱(2)的顶端固定安装有壳体(3)，所述壳体(3)的顶端右侧固定安装有超声波发生器(4)，所述壳体(3)的内腔设置有伸缩机构，所述底座(1)的内腔设置有夹紧机构；

所述伸缩机构包括第一伺服电机(5)、第一转轴(6)、第二转轴(7)、圆形板(8)、第一连杆(9)、第二连杆(10)和超声波振动棒(11)；

所述第一伺服电机(5)固定安装在壳体(3)的后侧顶端，所述第一伺服电机(5)的输出端延伸进壳体(3)的内腔并通过联轴器锁紧有第一转轴(6)，所述第一转轴(6)的前侧通过轴承与壳体(3)的内腔前侧转动连接，所述第二转轴(7)前后两侧均通过轴承与壳体(3)的内腔前后两侧顶端中部转动连接，所述第二转轴(7)与第一转轴(6)在同一水平面上，且第二转轴(7)位于第一转轴(6)的左侧，所述第一转轴(6)与第二转轴(7)的外壁中心位置均固定安装有圆形板(8)，且两个所述圆形板(8)的内侧设置有相互啮合的齿牙，所述圆形板(8)的外壁外侧固定安装第一连杆(9)的一端，所述第一连杆(9)的另一端轴接有第二连杆(10)的一端，所述第二连杆(10)的另一端轴接有竖直设置的超声波振动棒(11)，且超声波振动棒(11)与超声波发生器(4)电性连接，所述超声波振动棒(11)的底端延伸出壳体(3)的内腔。

2.根据权利要求1所述的一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，其特征在于：所述夹紧机构包括条形孔(12)、第二伺服电机(13)、齿轮(14)、滑道(15)、滑块(16)、齿条(17)、第一矩形杆(18)和第二矩形杆(19)，所述底座(1)的顶端左右两侧中心位置沿左右方向均开设有条形孔(12)，所述底座(1)的内腔底端中心位置固定安装有第二伺服电机(13)，所述第二伺服电机(13)的输出端固定安装有齿轮(14)，所述底座(1)的内腔顶端前后两侧沿左右方向均开设有滑道(15)，所述滑道(15)的内腔中心位置插接有滑块(16)的一部分，所述滑块(16)的另一部分固定安装有与齿轮(14)相啮合的齿条(17)，两个所述第一矩形杆(18)沿前后方向分别固定安装在两个所述齿条(17)的内侧，且两个第一矩形杆(18)相对于齿轮(14)的中心点旋转180度重合，所述第一矩形杆(18)的顶端固定安装有第二矩形杆(19)，且第二矩形杆(19)的顶端延伸出条形孔(12)的内腔。

3.根据权利要求1所述的一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，其特征在于：所述第一连杆(9)和第二连杆(10)的总长度大于圆形板(8)的外壁底端与壳体(3)下表面之间的距离。

4.根据权利要求2所述的一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，其特征在于：所述滑道(15)的内腔形状为燕尾槽形，且滑块(16)与滑道(15)的内腔相适配插接。

5.根据权利要求2所述的一种亚氨基二乙酸合成工艺用超声波清洗装置，其特征在于：所述第二矩形杆(19)的内侧顶端固定安装有橡胶垫(20)。