[实用新型]容器清洗装置

权利要求书

1.一种容器清洗装置，其特征在于，包括底盘组件、限位组件和清洗组件，所述底盘组件包括底座(1)和设置在所述底座(1)上的旋转盘(2)；所述限位组件包括设置于所述底座(1)上方的限位臂(5)；所述清洗组件包括第一清洗管路，所述第一清洗管路上设有第一喷嘴(10)。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其中，所述限位组件包括两个或两个以上的限位臂(5)，所述限位臂(5)上设有竖向的第一限位轴(14)，任一所述第一限位轴(14)上设有可相对第一限位轴(14)自由转动的第一滚轮(15)。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其中，所述限位臂(5)对称设于所述底座(1)的上方，所述限位臂(5)的前端采用横向的内凹弧形结构，所述内凹弧形结构的两个端点分别设有所述第一限位轴(14)。

4.根据权利要求1或2所述的清洗装置，其中，所述限位组件包括设置在旋转盘(2)上的第二限位轴(21)，所述第二限位轴(21)为三个或三个以上且按圆周分布在旋转盘(2)上，任一所述第二限位轴(21)上设有可相对第二限位轴(21)自由转动的第二滚轮，所述第二限位轴(21)可沿着圆周分布的直径方向伸缩移动，所述限位组件包括第三气缸(22)，所述第三气缸(22)连接第二限位轴(21)并推动第二限位轴(21)伸缩移动。

5.根据权利要求1或2所述的清洗装置，其中，所述第一清洗管路为倒L型清洗管路(9)，所述倒L型清洗管路(9)的长边和短边上均设有所述第一喷嘴(10)。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其中，所述清洗组件包括设置于所述底座(1)上方的倒L型支架(8)，沿着所述倒L型支架(8)的框架结构设有所述倒L型清洗管路(9)。

7.根据权利要求1或2所述的清洗装置，其中，所述底盘组件还包括旋转轴(12)，所述底座(1)内设有空腔，所述底座(1)的上表面设有第一通孔，所述旋转轴(12)上端固定连接所述旋转盘(2)，所述旋转轴(12)下端竖直穿过所述第一通孔进入所述空腔内并通过传动组件与电机(13)相连，所述底座(1)的上表面设有以所述第一通孔为中心的环形凹槽，所述环形凹槽内设有滚珠，所述滚珠的上方设有所述旋转盘(2)。

8.根据权利要求7所述的清洗装置，其中，所述旋转盘(2)上表面设有斜面支撑(17)，所述斜面支撑(17)为三个或三个以上且按圆周分布；所述旋转轴(12)具有轴向中空结构，所述旋转盘(2)在与旋转轴(12)的连接处设有第二通孔；所述清洗组件包括T型清洗管路，所述T型清洗管路的水平段管路(18)设在所述旋转盘(2)上方，所述水平段管路(18)上设有开口向上的第二喷嘴(20)，所述T型清洗管路的竖直段管路下端穿过所述第二通孔和所述旋转轴(12)的中空结构后固定在底座(1)的空腔内。

9.根据权利要求6所述的清洗装置，其中，所述限位组件包括第一气缸(4)，所述第一气缸(4)连接限位臂(5)并推动限位臂(5)伸缩移动；所述清洗组件包括第二气缸(7)，所述第二气缸(7)连接所述倒L型支架(8)并推动倒L型支架(8)在水平方向上伸缩移动；任一所述限位臂(5)上设有第一位置传感器，任一所述倒L型支架(8)上设有第二位置传感器，所述第一位置传感器和第二位置传感器连接控制器，所述控制器连接所述第一气缸(4)和所述第二气缸(7)。