[实用新型]一种旋转式真空镀膜装置有效
申请号: | 201920628453.7 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN209974880U | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 陈开龙 | 申请(专利权)人: | 深圳市沃克力技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/22;C23C16/458;C23C16/44;C23C14/56;C23C16/54 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空壳体 镀板 本实用新型 固定装置 气化装置 上端 镀料 封盖 通孔 真空镀膜装置 抽真空装置 匹配设置 外部连通 真空镀膜 中空结构 旋转式 侧壁 底壁 镀膜 | ||
本实用新型公开了一种旋转式真空镀膜装置,包括真空壳体,所述真空壳体为中空结构,所述真空壳体的上端与外部连通的通孔,且真空壳体的上端设有与通孔匹配设置的封盖,所述封盖的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置,所述真空壳体的两侧均设有抽真空装置,所述真空壳体的底壁上设有镀料气化装置,且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。本实用新型能够在一定范围内对不同大小厚度的镀板进行镀膜,适用性强,便于对镀板进行真空镀膜。
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域,尤其涉及一种旋转式真空镀膜装置。
背景技术
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜;
现有的真空镀膜设备不便于对不同大小厚度的镀板进行镀膜,适用性较差,为此我们提出一种旋转式真空镀膜装置来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的问题,而提出的一种旋转式真空镀膜装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种旋转式真空镀膜装置,包括真空壳体,所述真空壳体为中空结构,所述真空壳体的上端与外部连通的通孔,且真空壳体的上端设有与通孔匹配设置的封盖,所述封盖的下侧侧壁固定连接有镀板固定装置,所述真空壳体的两侧均设有抽真空装置,所述真空壳体的底壁上设有镀料气化装置,且镀料气化装置位于镀板固定装置的正下方。
优选地,所述镀板固定装置包括水平设置的固定板,所述固定板的下侧侧壁横向设有开口远离封盖的滑槽,所述滑槽内滑动连接有两个对称设置的滑板,两个所述滑板的下端均固定连接有水平设置的第一夹板,两个所述第一夹板的上侧侧壁均通过多个第一弹簧连接有水平设置的第二夹板,两个所述第一夹板的上侧侧壁均固定连接有竖直设置的连接杆,且两个连接杆的上端均贯穿第二夹板的侧壁设置,两个所述连接杆的上端均设有滑动锁块。
优选地,两个所述抽真空装置均包括抽真空泵,两个所述抽真空泵均与真空壳体的侧壁固定连接,两个所述抽真空泵的输出端均贯穿真空壳体的侧壁并固定连接有抽真空板。
优选地,所述镀料气化装置包括镀料槽,所述镀料槽内设有坩埚,所述镀料槽的上端设有气化板,所述气化板为中空结构,且气化板的下侧侧壁与镀料槽内部连通,所述气化板的上侧侧壁设有多个气化孔,且每个气化孔内均固定连接有气化网。
优选地,所述滑槽内固定连接有水平设置的固定杆,且两个滑板均套设在固定杆上,两个所述滑板的上端均设有安装槽,且两个安装槽内均设有滑轮,所述固定杆的两端均套设有第二弹簧,且两个第二弹簧分别与两个滑板的侧壁固定连接。
优选地,所述气化板的下侧侧壁固定连接有两个对称设置的插杆,且镀料槽的两端均设有与插杆匹配设置的插槽。
本实用新型中有益效果如下:
1、两个滑板内能够在滑槽内滑动,从而对两个第一夹板之间的工作距离进行调节,两个第二弹簧为能够推动滑板相向运动,使两个第一夹板能够固定不同长度的镀板,第一夹板与第二夹板能够在第一弹簧的配合下调节间距,从而对不同厚度的镀板进行固定;
2、坩埚能够将镀料蒸发,气化镀料通过气化孔及气化网均匀的上升,气化镀料与镀板接触,抽真空泵与抽真空板配合将真空壳体内部抽真空,使镀板在真空状态下完成镀膜。
附图说明
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