[实用新型]单晶圆湿处理设备有效
申请号: | 201920637940.X | 申请日: | 2019-05-06 |
公开(公告)号: | CN209515624U | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 陈贤鸿;吴宗恩 | 申请(专利权)人: | 弘塑科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 回收环 液体回收装置 气液混合物 湿处理设备 工艺液体 单晶 晶圆 气体回收装置 液体供应装置 旋转台 夹带 排出 施加 | ||
1.一种单晶圆湿处理设备,其特征在于,包含:
旋转台,用于放置晶圆;
液体供应装置,设置在所述旋转台上方,用于对所述晶圆施加多种工艺液体;
液体回收装置,环绕地设置在所述旋转台的周围,并且可沿着垂直方向相对所述旋转台移动,其中所述液体回收装置包含多个沿着所述垂直方向堆叠设置的回收环,且每一所述回收环用于收集对应的其中一种工艺液体及其夹带的气液混合物;以及
多个气体回收装置,分别与所述液体回收装置的所述多个回收环对应连接,其中每一所述气体回收装置包含:
风箱,包含第一连接口和第二连接口,其中所述第一连接口与对应的回收环连接,使得所述回收环内的所述气液混合物通过所述第一连接口进入所述风箱的内部;以及
排气管,与所述风箱的所述第二连接口连接,用于将收集的所述气液混合物排出。
2.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备,其特征在于,每一所述气体回收装置的所述风箱还包含:上表面、下表面、侧表面、空腔,所述上表面与所述下表面相对设置,且所述侧表面位在所述上表面与所述下表面之间,以及所述空腔是由所述上表面、所述下表面、和所述侧表面互相连接而组成,其中所述第一连接口设置在所述侧表面,以及所述第二连接口设置在所述上表面。
3.如权利要求2所述的单晶圆湿处理设备,其特征在于,每一所述气体回收装置的所述风箱还包含:排液口,设置在所述下表面,使得所述气液混合物通过所述风箱而产生的凝结液体通过所述排液口排出。
4.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备,其特征在于,所述液体回收装置的每一所述回收环包含:
液体接收口,与所述旋转台对准;
分隔板,设置在所述回收环的内部以分隔出内环空间和外环空间,其中所述内环空间用于承接从所述液体接收口进入的所述工艺液体及其夹带的所述气液混合物,并且所述分隔板阻挡所述工艺液体从所述内环空间流至所述外环空间,以及所述分隔板上形成有多个通孔,用于让所述内环空间内的所述气液混合物通过所述多个通孔进入所述外环空间;以及
液体收集口,与所述内环空间连通,用于让所述工艺液体从所述液体收集口排出;以及
多个气体回收装置,分别与所述液体回收装置的所述多个回收环对应连接,用于将收集的所述气液混合物排出。
5.如权利要求4所述的单晶圆湿处理设备,其特征在于,每一所述回收环还包含:
环形上盖;
环形底板,与所述环形上盖对应设置;
外环壁,与所述环形上盖的外周缘和所述环形底板的外周缘连接;
气体通道口,设置在所述外环壁上,且与对应的其中之一所述气体回收装置连接,其中所述分隔板设置在所述环形上盖和所述环形底板之间,以及所述液体接收口位在所述环形上盖的内周缘和所述环形底板的内周缘之间。
6.如权利要求1所述的单晶圆湿处理设备,其特征在于,每一所述气体回收装置的所述风箱还包含观视窗,且通过所述观视窗可看到所述风箱的内部;以及
其中所述单晶圆湿处理设备还包含多个水管路,且每一所述气体回收装置的所述风箱与一个所述水管路连接,以及通过所述水管路将洁净水传输至所述风箱以清洗所述风箱的内部。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造