[实用新型]一种应用于半导体废气处理设备的结构有效
申请号: | 201920702326.7 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN210473530U | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 章文军;杨春水;宁腾飞;陈彦岗;杨春涛;王继飞;张坤;闫萧;蔡传涛;席涛涛;王磊 | 申请(专利权)人: | 安徽京仪自动化装备技术有限公司 |
主分类号: | B01D53/32 | 分类号: | B01D53/32;B01D53/14;F23G7/06 |
代理公司: | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人: | 郑直 |
地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 应用于 半导体 废气 处理 设备 结构 | ||
1.一种应用于半导体废气处理设备的结构,其特征在于,包括机柜(1),所述机柜(1)内安装有废气处理系统,所述废气处理系统包括气动三通阀(2),所述气动三通阀(2)下端连接对废气进行第一步净化的反应腔(3),所述反应腔(3)上端连接将废气进行燃烧的等离子体火炬(4)且其下端设有对废气进行第二步净化的循环水箱(5),所述循环水箱(5)连接对废气进行第三步净化的水洗塔(6),所述循环水箱(5)上设有水泵(7),所述水泵(7)连接有循环水管(8),所述循环水管(8)通过水管连接水洗塔(6)上的水管连接头(9)。
2.根据权利要求1所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构,其特征在于:所述反应腔(3)下端卡箍连接溢流部一(10),所述溢流部一(10)下端连接循环水箱(5),所述溢流部一(10)包括与反应腔(3)下端连接的溢流腔一(11),所述溢流腔一(11)套接于溢流管(12)外且其侧面设有水流入口一(13),所述水流入口一(13)连接车间自来水源。
3.根据权利要求2所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构,其特征在于:所述水洗塔(6)上端设有溢流部二(14),所述溢流部二(14)包括直径相同的上连接件(15)和下连接件(16),所述上连接件(15)和下连接件(16)外套接溢流腔二(17)且其端面之间设有溢流口(18),所述溢流腔二(17)上连接有水流入口二(19),所述水流入口二(19)连接车间自来水源。
4.根据权利要求3所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构,其特征在于:所述溢流部二(14)上卡箍连接上层水洗塔(20),所述上层水洗塔(20)上设有套筒(21),所述套筒(21)外端口设有连接件一(22),所述连接件一(22)上安装有给上层水洗塔(20)通风的新风组合件(23)。
5.根据权利要求4所述的一种应用于半导体废气处理设备的结构,其特征在于:所述新风组合件(23)包括与连接件一(22)螺钉连接的连接件二(24),所述连接件二(24)外设有四个沿其轴线呈环形排列的支撑柱(25),所述支撑柱(25)另一端连接底板(26),所述底板(26)上设有安装板(27)和气缸(28),所述气缸(28)的活塞杆末端穿过底板(26)并连接通风件(29),所述通风件(29)套于连接件二(24)、连接件一(22)和套筒(21)内,所述通风件(29)上设有数个进风孔(30)。
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