[实用新型]整体式同心双平面抛光装置

说明书

整体式同心双平面抛光装置，包括工作台，抛光液回收槽内设有下抛光盘，下抛光盘与第一电机连接；下抛光盘上方同心设有上抛光盘，上抛光盘通过环形导轨与固定环联接；工作台两侧各设有立柱，立柱上安装电动直线模组和直线导轨；电动直线模组和直线导轨的滑块上各固联一L型连接块，对应的，固定环上设有安装部，两个安装部分别与两个L型连接块固联；电机安装支架上第二电机限位环与下抛光盘固联；限位环与上抛光盘相适配；下抛光盘上，在位于限位环内，贴有下抛光垫；限位环上设有进液通道和排液通道，排液通道和进液通道呈交错间隔设置；定位槽的外侧设有与排液通道连通流道。本实用新型现场安装难度低，使用方便，同时加工效率高，抛光精度高。

技术领域

本实用新型涉及超精密加工设备，具体涉及整体式同心双平面抛面装置。

背景技术

超精密加工是现代机械制造业最主要的发展方向之一，在提高机电产品的性能、质量和发展高新技术中起着至关重要的作用，并且已成为在国际竞争中取得成功的关键技术。

抛光是一种重要的超精密加工方式，通常用于产品的最终精加工。双平面抛光装置包括上抛光盘和下抛光盘，目前的双平面抛光装置以同心式的为主。大部分同心双平面抛光装置的下抛光盘和上抛光盘虽然是配套使用，但一般都是相互独立的。同心双平面抛光装置在安装时，需要保证上抛光盘和下抛光盘为同心设置，两者的同心度对装置的加工质量有着极大的影响。由于下抛光盘一般设置在工作台上，而上抛光盘则设置在机架或可以转动的转壁上，两者之间存在一定距离，为了保证同心度，其现场安装要求较高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种无须安装上抛光盘的整体式同心双平面抛光装置。本实用新型现场安装难度低，使用方便，同时加工效率高，抛光精度高。

本实用新型的技术方案：整体式同心双平面抛光装置，包括工作台，工作台上设有抛光液回收槽，抛光液回收槽内设有下抛光盘，下抛光盘与其下方的第一电机连接；所述抛光液回收槽上设有回收通道；所述下抛光盘上方同心设有上抛光盘，所述上抛光盘通过环形导轨与固定环联接；所述工作台的两侧各设有一立柱，其中一根立柱上安装有电动直线模组，另一根立柱上安装有直线导轨；所述电动直线模组和直线导轨的滑块上各固联一L型连接块，对应的，所述固定环上设有一对安装部，两个安装部分别与两个L型连接块固联；两个安装部通过设于它们上的电机安装支架相连，电机安装支架上设有用于驱动上抛光盘转动的第二电机；所述下抛光盘上设有一个用于放置限位环的定位槽，所述限位环与下抛光盘通过螺钉固联；所述限位环的内径与上抛光盘相适配；所述上抛光盘上贴有上抛光垫；所述下抛光盘上，在位于限位环内，贴有下抛光垫；所述限位环上均匀设有一组外高内低的进液通道和一组外低内高的排液通道，所述排液通道和进液通道呈交错间隔设置；与排液通道相对应，所述定位槽的外侧设有一组与排液通道连通的呈外低内高的流道。

与现有技术相比，本实用新型摒弃了传统的上抛光盘和下抛光盘互相独立的形式，通过将上抛光盘安装在工作台两侧的电动直线模组和直线导轨上，使下抛光盘和下抛光盘形成整体式的结构，同时电动直线模组比传统气缸的行程更加精确，有利于获得较高的抛光精度；该结构不但保证了装置的同心度，而且免去了现场安装上抛光盘的繁琐步骤，使用较为方便；此外，上抛光盘和下抛光盘分别设有驱动各自转动的电机，抛光效率较高，同时配合特有的抛光液流道，可以保证抛光液流通通畅，进一步提高装置的抛光精度。

作为优化，所述限位环上设有3个沿周向呈两两120°间隔分布进液通道和3个沿周向呈两两120°间隔分布排液通道。该结构中可以保证排液通道和进液通道互不干扰，各司其职，使抛光液可以高效地流进和排出，提高装置的抛光精度和抛光效率。

作为优化，所述进液通道、排液通道和流道的斜度均为15～25°。该斜度区间的进液通道可以保证抛光液高效地流入的加工区域，对应的，同一的斜度使有利于排液通道和流道形成一条直道，使抛光液可以携带磨屑高效地从限位环的加工区域中流出。