[实用新型]光栅线密度测量装置有效

专利信息
申请号: 201920721956.9 申请日: 2019-05-20
公开(公告)号: CN209689889U 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 李广伟;陈怀熹;张新彬;冯新凯;古克义;梁万国 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 11540 北京元周律知识产权代理有限公司 代理人: 胡璇<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 350002 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 光栅 衍射光斑 挡光板 圆心 激光光束 激光器 通光孔 测量装置结构 线密度测量 衍射角 波长 出射 去除 入射 测量 申请
【权利要求书】:

1.一种光栅线密度测量装置,其特征在于,包括:激光器和挡光板,所述挡光板上延所述挡光板横向贯穿所述挡光板设置通光孔;

所述激光器出射激光光束透过所述挡光板上的通光孔入射待测光栅;调整所述待测光栅至所述通光孔的圆心为衍射光斑圆心时,所述待测光栅满足0级littrow条件或-1级Littrow条件,测量所述待测光栅从满足0级littrow条件到满足-1级Littrow条件转过的角度。

2.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,包括:旋转台,所述待测光栅设置于所述旋转台上;

所述旋转台包括:平台和第二支撑架,所述平台绕所述平台的纵向中心轴转动,所述平台转动连接于所述第二支撑架顶面上。

3.根据权利要求2所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,所述平台所处平面相对所述第二支撑架顶面所处平面转过的角度为所述待测光栅转过角度;

还包括:第二调整架,所述平台的底面与所述第二调整架连接;

所述第二调整架的底面与所述第二支撑架的顶面连接。

4.根据权利要求3所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,还包括:角度编码器,与所述旋转台数据连接,并用于读取所述平台所处平面相对所述第二支撑架顶面所处平面转过的角度。

5.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,所述挡光板表面设置标记线,所述标记线为以所述通光孔圆心为其圆心的多个同心圆。

6.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,还包括:第一支撑架和第一调整架,所述激光器设置于所述第一调整架上,所述第一调整架设置于所述第一支撑架上。

7.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,所述激光器为632.8nm波段He-Ne气体激光器。

8.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,所述通光孔直径略小于入射所述待测光栅的光束横截面直径。

9.根据权利要求1所述的光栅线密度测量装置,其特征在于,所述挡光板为白色板。

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