[实用新型]光栅线密度测量装置有效
申请号: | 201920721956.9 | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN209689889U | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 李广伟;陈怀熹;张新彬;冯新凯;古克义;梁万国 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 11540 北京元周律知识产权代理有限公司 | 代理人: | 胡璇<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
地址: | 350002 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光栅 衍射光斑 挡光板 圆心 激光光束 激光器 通光孔 测量装置结构 线密度测量 衍射角 波长 出射 去除 入射 测量 申请 | ||
本申请公开了一种光栅线密度测量装置,该装置包括:激光器和挡光板,激光器出射激光光束透过挡光板上的通光孔入射待测光栅,调整待测光栅至通光孔的圆心为衍射光斑圆心时,待测光栅满足0级littrow条件或‑1级Littrow条件,待测光栅从满足0级littrow条件到满足‑1级Littrow条件所转过的角度即为衍射角α,光栅线密度m:m=2*106*sinα/λ,其中,λ为激光光束的波长。该装置充分利用衍射光斑面积较大的特点,在不去除衍射光斑面积的情况下,简化测量装置结构,仅需增加挡光板即可消除衍射光斑面积对测量结果的影响,能够精确测量光栅的实际线密度。
技术领域
本申请涉及一种光栅线密度测量装置,属于光学测量领域。
背景技术
紫外光刻胶作为一种抗刻蚀剂,因其工艺过程简单、容易控制,多年来一直在全息领域被广泛应用。
采用全息技术加工光栅的常规工艺流程为:晶片清洁——晶片涂胶——烘烤——曝光——显影。常规曝光方式为双光束紫外光干涉曝光法。两束光之间的夹角度数(即干涉角)决定了光栅的线密度,干涉角越大,光栅线密度越高。
干涉角直接影响光栅线密度,如:以325nm波长的紫外光进行干涉,两束光的夹角每改变0.1°,光栅的线对数就相差了约5条/mm,这对精度要求在0.1线/mm的光栅线密度来说,无疑是不能接受的。为保证产品质量,需对光栅线密度进行测量。
现行光栅线密度测量主要为干涉测量法、莫尔条纹法、长程面型仪法和衍射法,其中衍射法在测量精度方面更具优势,例如CN201611115071中公布了一种光栅线密度测量方法及测量系统,该测试系统包括激光光源、光纤耦合器、单模2x2光纤耦合器、光纤功率计、光纤准直器、电动旋转台和电动直线位移平台。该测试方法符合理论要求,但测试系统结构复杂,测量过程繁琐。当需要进行大量测量时,检测效率较低。
实用新型内容
根据本申请的一个方面,提供了一种光栅线密度测量装置,该装置充分利用衍射光斑面积较大的特点,在不去除衍射光斑面积的情况下,简化测量装置结构,仅需增加挡光板即可消除衍射光斑面积对测量结果的影响,能够精确测量光栅的实际线密度。
所述光栅线密度测量装置,其特征在于,包括:激光器和挡光板,所述挡光板上延所述挡光板横向贯穿所述挡光板设置通光孔;所述激光器出射激光光束透过所述挡光板上的通光孔入射待测光栅;调整所述待测光栅至所述通光孔的圆心为衍射光斑圆心时,所述待测光栅满足0级littrow条件或-1级Littrow条件,测量所述待测光栅从满足0级littrow条件到满足-1级Littrow条件转过的角度。
可选地,包括:旋转台,所述待测光栅设置于所述旋转台上;
所述旋转台包括:平台和第二支撑架,所述平台绕所述平台的纵向中心轴转动,所述平台转动连接于所述第二支撑架顶面上。
可选地,所述平台所处平面相对所述第二支撑架顶面所处平面转过的角度为所述待测光栅转过角度;
还包括:第二调整架,所述平台的底面与所述第二调整架连接;
所述第二调整架的底面与所述第二支撑架的顶面连接。
可选地,还包括:角度编码器,与所述旋转台数据连接,并用于读取所述平台所处平面相对所述第二支撑架顶面所处平面转过的角度。
可选地,所述挡光板表面设置标记线,所述标记线为以所述通光孔圆心为其圆心的多个同心圆。
可选地,还包括:第一支撑架和第一调整架,所述激光器设置于所述第一调整架上,所述第一调整架设置于所述第一支撑架上。
可选地,所述激光器为632.8nm波段He-Ne气体激光器。
可选地,所述通光孔直径略小于入射所述待测光栅的光束横截面直径。
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