[实用新型]超声波蚀刻装置有效
申请号: | 201920758651.5 | 申请日: | 2019-05-23 |
公开(公告)号: | CN209607710U | 公开(公告)日: | 2019-11-08 |
发明(设计)人: | 黄国栋 | 申请(专利权)人: | 深圳天华机器设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 深圳市博锐专利事务所 44275 | 代理人: | 林栋 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声波发生器 传送件 蚀刻 蚀刻装置 相对设置 超声波 蚀刻槽 本实用新型 生产效率 正反两面 蚀刻液 架设 | ||
本实用新型公开了一种超声波蚀刻装置,包括机架和设于机架上的蚀刻槽,还包括传送件和设于机架上的上超声波发生器以及下超声波发生器,所述传送件架设于所述蚀刻槽内,所述上超声波发生器设于所述传送件的上方,所述下超声波发生器设于传送件的下方,所述上超声波发生器与下超声波发生器相对设置。相对设置的上超声波发生器和下超声波发生器分别位于传送件的上方和下方,可以对传送件上待蚀刻产品的正反两面同时进行加工处理,提高蚀刻液渗透和蚀刻的效率,缩短产品的蚀刻时间,从而提高生产效率。
技术领域
本实用新型涉及零件加工技术领域,尤其涉及超声波蚀刻装置。
背景技术
现有的蚀刻机通常采用药水喷淋的方式对线路板进行蚀刻,对于线与线或者线与元件之间的间距很小的线路板,药水很难进入线路的根部,对线路进行彻底的蚀刻处理,为了达到更优的蚀刻效果,消耗的时间和资料都是巨大的,严重影响生产效率。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种效率高的超声波蚀刻装置。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:超声波蚀刻装置,包括机架和设于机架上的蚀刻槽,还包括传送件和设于机架上的上超声波发生器以及下超声波发生器,所述传送件架设于所述蚀刻槽内,所述上超声波发生器设于所述传送件的上方,所述下超声波发生器设于传送件的下方,所述上超声波发生器与下超声波发生器相对设置。
进一步的,还包括固定于机架上的储液槽和水泵,所述水泵连通所述储液槽和蚀刻槽。
进一步的,所述蚀刻槽位于所述储液槽的上方。
进一步的,还包括水刀,所述水泵的出水口设有所述水刀。
进一步的,还包括过滤器,所述水泵的出水口设有所述过滤器。
进一步的,所述传送件包括相对设置的上滚轮和下滚轮。
进一步的,还包括挡水滚轮,所述上滚轮的两端以及下滚轮的两端均设有所述挡水滚轮。
进一步的,还包括设于蚀刻槽上的挡水板,所述挡水板靠近所述挡水滚轮设置。
进一步的,还包括水位感应器,所述蚀刻槽的内壁上设有所述水位感应器。
进一步的,所述水位感应器与上超声波发生器齐平设置。
本实用新型的有益效果在于:相对设置的上超声波发生器和下超声波发生器分别位于传送件的上方和下方,蚀刻液浸泡过程中,超声波对线路板上待蚀刻产品的正反两面同时进行蚀刻处理,超声波具有的强穿透能力强可以提高蚀刻液渗透和蚀刻的效率,缩短产品的蚀刻时间,从而提高生产效率和蚀刻精度。
附图说明
图1为本实用新型的超声波蚀刻装置的侧视图;
图2为本实用新型的超声波蚀刻装置的主视图。
标号说明:
1、机架;
2、蚀刻槽;
21、挡水板;
3、传送件;
31、上滚轮;
32、下滚轮;
33、挡水滚轮;
4、上超声波发生器;
5、下超声波发生器;
6、储液槽;
7、水泵;
8、水刀;
9、过滤器。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造