[实用新型]一种抛光系统

权利要求书

1.一种抛光系统，其特征在于，包括电解液系统(100)、工具电极(200)、电源(300)以及工控机(400)，其中：

电解液系统(100)，用于向所述工具电极(200)提供电解质溶液，其中，所述电解质溶液中包括磨粒；

工具电极(200)，用于将所述电解质溶液喷射于待抛光物体(500)表面；

电源(300)，其正极连接所述待抛光物体(500)，负极连接所述工具电极(200)，以使所述待抛光物体(500)的表面在所述电解质溶液的作用下发生电化学反应并在磨粒作用下抛光；

工控机(400)，用于控制所述工具电极(200)的运动及与所述待抛光物体(500)之间的距离。

2.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述磨粒为氧化铝颗粒。

3.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述工具电极(200)包括工作头(201)、中空轴(202)以及旋转接头(203)，其中，所述工作头(201)为鼓形，其外表面设有多个喷射孔以喷射所述电解质溶液，中空轴(202)的一端设有所述工作头(201)，用于向所述工作头(201)输送所述电解质溶液，其另一端设有所述旋转接头(203)，以在所述旋转接头(203)的作用下带动所述工作头(201)旋转并移动。

4.根据权利要求3所述的抛光系统，其特征在于，所述工控机(400)包括运动控制卡(401)，所述工控机(400)通过所述运动控制卡(401)控制所述旋转接头(203)的旋转与移动。

5.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述电解液系统(100)包括溢流阀(101)以及压力表(102)，其中，所述压力表(102)用于检测所述工具电极(200)入口处的压力值并将所述压力值发送至所述工控机(400)，以使所述工控机(400)根据所述压力值控制所述溢流阀(101)的开度以调节所述电解质溶液的流速。

6.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述电解液系统(100)还包括供液泵(103)、电解液收集箱(104)、回收泵(105)、输运管路(106)、存储库(107)以及搅拌器(108)，其中，所述供液泵(103)和回收泵(105)设于所述输运管路(106)上；所述电解液收集箱(104)用于收集所述工具电极(200)喷射出的电解质溶液；所述存储库(107)用于存储所述电解质溶液；所述回收泵(105)用于将所述电解液收集箱(104)中的电解质溶液输入所述存储库(107)；所述供液泵(103)用于向所述工具电极(200)输送所述电解质溶液；所述搅拌器(108)设于所述存储库(107)内，用于搅拌所述电解质溶液。

7.根据权利要求6所述的抛光系统，其特征在于，所述搅拌器(10S)为涡轮式搅拌器，其叶片的材料为钢衬超高分子量聚乙烯。

8.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述电源(300)与所述待抛光物体(500)之间设有霍尔电流传感器(600)，用于检测电路中的电流，并将检测的电流值发送至所述工控机(400)。

9.根据权利要求1所述的抛光系统，其特征在于，所述工具电极(200)与所述待抛光物体(500)之间的距离为0.2-0.8mm。

10.根据权利要求2所述的抛光系统，其特征在于，所述磨粒的直径为50-100μm。