[实用新型]喷淋头装置及MOCVD设备

权利要求书

1.一种喷淋头装置，其特征在于，包括固定部件(1)和旋转部件(2)，所述固定部件(1)和旋转部件(2)通过第一动密封结构(3)密封对接，形成一封闭空间(4)，其中，

在所述固定部件(1)中设置有进气口(5)，所述进气口(5)与所述封闭空间(4)连通；

所述旋转部件(2)包括位于所述封闭空间(4)底部的喷淋板(21)，所述喷淋板(21)能够相对于所述固定部件(1)围绕自身轴线旋转，且在所述喷淋板(21)中设置有多个出气口(211)，用于将所述封闭空间(4)中的气体喷出。

2.根据权利要求1所述的喷淋头装置，其特征在于，所述喷淋头装置还包括旋转驱动机构，所述旋转驱动机构包括旋转轴(9)和第二动密封结构(6)，其中，

所述旋转轴(9)可围绕其轴线旋转；

在所述固定部件(1)中设置有安装孔(101)，所述旋转轴(9)竖直穿设于所述安装孔(101)中，且所述旋转轴(9)的下端与所述喷淋板(21)连接；所述旋转轴(9)的轴线与所述喷淋板(21)的轴线重合；

所述第二动密封结构(6)用于对所述旋转轴(9)与所述安装孔(101)之间的间隙进行密封。

3.根据权利要求2所述的喷淋头装置，其特征在于，所述第一动密封结构(3)包括磁流体密封件；所述第二动密封结构(6)包括磁流体密封件。

4.根据权利要求1所述的喷淋头装置，其特征在于，在所述固定部件(1)中设置有用于输送冷却媒介的冷却通道，及分别与所述冷却通道的两端连通的入口(7)和出口(8)。

5.根据权利要求1所述的喷淋头装置，其特征在于，所述喷淋头装置还包括气帘结构，所述气帘结构包括环绕设置在所述喷淋板(21)的周围的多个喷气口，多个所述喷气口用于喷出非反应气体，以在所述喷淋板(21)的周围形成气帘。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的喷淋头装置，其特征在于，所述旋转部件(2)还包括第一环形侧壁(22)，所述第一环形侧壁(22)的下端与所述喷淋板(21)连为一体，所述第一环形侧壁(22)的上端与所述固定部件(1)对接，且所述固定部件(1)、所述第一环形侧壁(22)和所述喷淋板(21)形成所述封闭空间(4)；所述第一动密封结构(3)设置在所述第一环形侧壁(22)与所述固定部件(1)的两个对接面之间。

7.根据权利要求1-5任意一项所述的喷淋头装置，其特征在于，所述固定部件(1’)包括顶板(11)和第二环形侧壁(12)，所述第二环形侧壁(12)的上端与所述顶板(11)连为一体，所述第二环形侧壁(12)的下端与所述喷淋板密封对接，且所述顶板(11)、所述第二环形侧壁(12)和所述喷淋板形成所述封闭空间(4)。

8.一种MOCVD设备，包括反应腔室和设置在所述反应腔室顶部的喷淋头装置，在所述反应腔室内设置有用于承载被加工工件的基座，其特征在于，所述喷淋头装置采用权利要求1-7任意一项所述的喷淋头装置。

9.根据权利要求8所述的MOCVD设备，其特征在于，所述基座可围绕其轴线旋转，且所述基座的旋转方向与所述喷淋板的旋转方向相反。

10.根据权利要求8所述的MOCVD设备，其特征在于，所述基座的上表面与所述喷淋板的下表面之间的竖直间距的取值范围在25mm-50mm。