[实用新型]一种平板式PECVD设备用大尺寸腔盖有效
申请号: | 201920798776.0 | 申请日: | 2019-05-29 |
公开(公告)号: | CN210341062U | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 彭宜昌;陈国钦;唐电;杨彬;郭立;杨勇 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 平板 pecvd 备用 尺寸 | ||
本实用新型公开了一种平板式PECVD设备用大尺寸腔盖,包括盖板,所述盖板的一条侧边上设有铰链安装部,所述盖板的外表面固设有第一T形加强筋和第二T形加强筋,所述第一T形加强筋包括第一横边和第一竖边,所述第二T形加强筋包括第二横边和第二竖边,所述第一横边、第二横边及侧边依次平行布置,所述第一竖边的中心线与所述第二竖边的中心线重合,所述第二竖边与所述第一横边抵靠。本实用新型具有结构简单、强度高、有利于防止变形等优点。
技术领域
本实用新型涉及平板式PECVD设备,尤其涉及一种晶硅太阳能电池制造工艺用平板式PECVD设备用大尺寸腔盖。
背景技术
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是指等离子体增强化学气相沉积法,利用微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,几种离子重新化合行成固态化合物沉积在工件表面形成新的化合物薄膜。由于太阳能电池制造工艺中,使用的阵列式离子源放电,每批次的工件数量多,这些离子源和批量工件都是在同一个工艺腔内进行,因此工艺腔体的尺寸很大,相应地,腔体上盖尺寸也很大,而工艺过程是在真空下进行,腔体和腔盖都需要承受大气的压力,腔盖的变形防护显得尤为重要。随着产能的提高,设备的各组成腔室的尺寸明显增加(长×宽大于1m×m),腔盖尺寸也随之增加,更加容易出现腔盖变形的现象,不利于保证腔室内部的密封性,进而也不利于保证产品质量。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种结构简单、强度高、有利于防止变形的平板式PECVD设备用大尺寸腔盖。
为解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:
一种平板式PECVD设备用大尺寸腔盖,包括盖板,所述盖板的一条侧边上设有铰链安装部,所述盖板的外表面固设有第一T形加强筋和第二T形加强筋,所述第一T形加强筋包括第一横边和第一竖边,所述第二T形加强筋包括第二横边和第二竖边,所述第一横边、第二横边及侧边依次平行布置,所述第一竖边的中心线与所述第二竖边的中心线重合,所述第二竖边与所述第一横边抵靠。
作为上述技术方案的进一步改进:所述第一T形加强筋和所述第二T形加强筋均与所述盖板通过紧固件连接。
作为上述技术方案的进一步改进:所述侧边的两端均设有所述铰链安装部,所述第二T形加强筋位于两个所述铰链安装部之间。
作为上述技术方案的进一步改进:所述盖板的外表面设有定位槽,所述第一T形加强筋和所述第二T形加强筋定位于所述定位槽中。
所述盖板的内表面于中部设有凹槽,所述凹槽的四周形成内加强筋。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:本实用新型公开的平板式PECVD设备用大尺寸腔盖,在盖板外表面设置第一T形加强筋和第二T形加强筋,第一T形加强筋的第一横边、第二T形加强筋的第二横边及设有铰链安装部的侧边依次平行布置,第一T形加强筋的第一竖边的中心线与第二T形加强筋的第二竖边的中心线重合,且第二T形加强筋的第二竖边与第一T形加强筋的第一横边抵靠,增加了盖板的强度,可有效防止大尺寸腔盖发生变形,有利于保证腔体内部的密封性。
附图说明
图1是本实用新型平板式PECVD设备用大尺寸腔盖的结构示意图。
图2是图1的剖视结构示意图。
图中各标号表示:1、盖板;11、侧边;12、铰链安装部;13、定位槽;14、凹槽;15、内加强筋;2、第一T形加强筋;21、第一横边;22、第一竖边;3、第二T形加强筋;31、第二横边;32、第二竖边;4、紧固件。
具体实施方式
以下结合说明书附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的