[实用新型]一种真空镀膜机的进气系统有效

专利信息
申请号: 201920799463.7 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN210065897U 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 张德军 申请(专利权)人: 深圳市创基真空科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518015 广东省深圳市宝安区沙井街道沙头工业区民福路8号*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 进气箱体 进气通道 本实用新型 进气管道 进气孔 真空镀膜机 底部连通 镀膜效果 进气系统 模具表面 进气 膜厚 轴向 连通 平整
【说明书】:

本实用新型涉及一种真空镀膜机的进气系统,其包括进气箱体,所述进气箱体顶部连接有进气管道,所述进气箱体内设有进气通道,所述进气通道与进气管道连通,所述进气通道底部沿其轴向开设有至少两个进气孔,所述进气孔与进气箱体底部连通。本实用新型具有进气均匀,镀膜效果更好,模具表面膜厚更均匀,平整的效果。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机的技术领域,尤其是涉及一种真空镀膜机的进气系统。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜广泛应用在在模具的保护上,镀膜可协助模具散热、延长模具使用寿命、增加脱膜性与成型率、提升产品良率等。

真空镀膜方法包括阴极溅射镀膜法,这种方法是将作为膜的靶材放在阴极上,将需镀膜的基体放在阴极对面,把惰性气体如氩气通入已抽空的室内,保持压强约1.33~13.3Pa,然后将阴极接上2000V的直流电源,激发辉光放电,带正电的氩离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。参考授权公告号为CN204769364U的实用新型专利,由于批量生产的要求,传统的阴极溅射镀膜机真空室内放置有多个模具,模具上安装有进气管道,气体从进气管道一端的进气口通入真空室,从而对模具进行镀膜。

上述中的现有技术方案存在以下缺陷:气体从单一进气口进入真空室,无法均匀分散在靶材附近,很容易导致模具上膜镀得不均匀,甚至导致模具远离进气口的部分的膜厚未达到要求,无法很好的保护模具以及改善模具特性,影响模具质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空镀膜机的进气系统,其具有进气均匀,镀膜效果更好,模具表面膜厚更均匀、平整的效果。

本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的:

一种真空镀膜机的进气系统,包括进气箱体,所述进气箱体顶部连接有进气管道,所述进气箱体内设有进气通道,所述进气通道与进气管道连通;所述进气通道底部沿其轴向开设有至少两个进气孔,所述进气孔与进气箱体底部连通。

通过采用上述技术方案,通过设置进气通道与进气孔,气体从一个进气管道进入进气箱体,从至少两个分开的进气孔出来,气体在进气箱体内经过扩散,均匀的进入真空室,镀膜效果更好,提高模具品质。

本实用新型进一步设置为:所述进气通道底部逐层连接有若干个下一进气通道,每个下一进气通道底部沿其轴向开设有若干个进气孔,每个下一进气通道开设的进气孔数量大于上一进气通道开设的进气孔数量。

通过采用上述技术方案,进气通道之间通过进气孔实现气体的流通,每层进气通道上设置比上一层进气通道多的进气孔,进气通道越多,进气孔越多,气体分布越均匀。

本实用新型进一步设置为:所述进气孔在进气通道上均匀设置。

通过采用上述技术方案,进气孔均匀设置在进气通道上,每个上一进气孔到下一进气孔的距离相同,出气量相同,解决了各进气口之间存在压力差、布气不均匀的问题。

本实用新型进一步设置为:最底层进气孔为锥台状。

通过采用上述技术方案,气体从进气孔出来时,锥台状进气孔有利于气体更好的扩散,气体分布更加均匀。

本实用新型进一步设置为:所述进气箱体内从上到下分别设有第一进气通道、第二进气通道与第三进气通道;所述第一进气通道上三等分点处均开设有第一进气孔,所述第二进气通道上五等分点处均开设有第二进气孔,所述第三进气通道上九等分点处均开设有第三进气孔。

通过采用上述技术方案,进气箱体上设置三个进气通道,在三个进气通道上等分点处均设置进气孔,每个进气通道上设置的进气孔错开,经过多次布气,能够更好的实现气体均匀分布的目的。

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