[实用新型]单晶炉

说明书

本实用新型公开了一种单晶炉，涉及单晶硅设备技术领域，主要目的是提供一种能够防止排气管阻塞的单晶炉。本实用新型的主要技术方案为：一种单晶炉，包括：炉体；排气部，排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，排气管的一端连接于炉体，用于排出炉体内的杂质，活塞部件设置在排气管内，并且滑动连接于排气管，用于刮去排气管的内壁上的杂质，进气部件连接于排气管，用于吹扫排气管。本实用新型主要用于单晶炉排气。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅设备技术领域，尤其涉及一种单晶炉。

背景技术

随着光伏产业的快速发展，单晶硅的制备已经逐步进入成熟阶段，并且，随着单晶炉的尺寸的增加，热场的尺寸和投料量也在逐渐增加，投料量的增加对降低能源消耗、生产成本以及人工强度有着重要的意义。

现有的单晶硅生产工艺中，通常采用的是连续拉晶技术，该技术在降低成本方面具有显著的效果，现有的单晶炉通常包括炉体和排气管，排气管设置在炉体的底部，具有排气顺畅、产量高和运行时间长的效果，但是，在长时间连续拉晶后，排气管内会堆积大量的杂质，从而出现排气管阻塞的情况，当排气管阻塞后，会导致炉体内的废气不能够及时排除炉体，从而导致单晶硅的品质下降。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供一种单晶炉，主要目的是提供一种能够防止排气管阻塞的单晶炉。

为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：

本实用新型实施例提供了一种单晶炉，包括：

炉体；

排气部，所述排气部包括进气部件、排气管和活塞部件，所述排气管的一端连接于所述炉体，用于排出所述炉体内的杂质，所述活塞部件设置在所述排气管内，并且滑动连接于所述排气管，用于刮去所述排气管的内壁上的杂质，所述进气部件连接于所述排气管，用于吹扫所述排气管。

进一步的，所述排气管包括第一排气管、第二排气管、第三排气管和连接管，所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体，所述连接管的两端分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述第三排气管连接于所述连接管的中部，所述进气部件分别连接于所述第一排气管和所述第二排气管，所述活塞部件设置在所述连接管内，并且滑动连接于所述连接管。

进一步的，所述第一排气管和所述第二排气管分别连接于所述炉体的底部。

进一步的，所述进气部件包括进气装置、第一进气管和第二进气管，所述第一进气管的一端连接于所述进气装置，另一端连接于所述第一排气管，所述第二进气管的一端连接于所述进气装置，另一端连接于所述第二排气管。

进一步的，所述第一进气管设置在所述第一排气管靠近所述炉体的底部位置，所述第二进气管设置在所述第二排气管靠近所述炉体的底部位置。

进一步的，所述连接管的两端分别可拆卸连接于所述第一排气管和所述第二排气管。

进一步的，所述活塞部件包括驱动器、滑轨和活塞件，所述驱动器连接于所述活塞件，所述滑轨设置在所述连接管的内壁上，所述活塞件滑动连接于所述滑轨。

进一步的，所述活塞件的边缘位置具有刮片，所述刮片与所述连接管的内壁相互贴合，用于刮去附着在所述连接管的内壁上的杂质。

与现有技术相比，本实用新型具有如下技术效果：