[实用新型]筒状进气装置及镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201920812515.X 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN210001932U 公开(公告)日: 2020-01-31
发明(设计)人: 王志升 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;H01L31/18
代理公司: 11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 102200 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 匀气 出气 出气端 外筒体 本实用新型 进气装置 出气孔 进气端 内筒体 筒状 镀膜设备 进气管路 进气通道 气体分布 输送气体 通道距离 均匀性 内周壁 嵌套的 外周壁 筒体 连通
【说明书】:

实用新型提供的筒状进气装置及镀膜设备,包括相互嵌套的内筒体(31)和外筒体(32),在内筒体(31)中设置有至少一组出气组,其包括多个出气孔(311);还包括匀气结构,其设置在外筒体(32)的内周壁与内筒体(31)的外周壁之间,包括至少一条匀气通道,其数量与出气组的数量相同,且一一对应地设置;匀气通道具有一个进气端(3211)和多个出气端(3212),各个出气端(3212)和相应的出气组中的各个出气孔(311)连通;匀气通道被设置为进气端(3211)与各个出气端(3212)之间的通道距离一致;在外筒体(32)中还设置有用于向各个匀气通道输送气体的进气通道(322)。本实用新型提供的筒状进气装置,其可以简化进气管路的结构,有效提高气体分布均匀性。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域,具体地,涉及一种筒状进气装置及镀膜设备。

背景技术

在砷化镓太阳能电池的生产过程中,通过使用金属有机化合物化学气相沉淀(Metal-Organic Chemical Vapour Deposition,以下简称MOCVD)设备在电池的基片上形成金属聚合物膜层。MOCVD设备主要由反应腔体、气体喷淋圆筒、圆筒型基片载台及圆筒型加热器组成。在工艺时,反应气体由横向和纵向的多处进气管进入反应腔体,然后通过气体喷淋圆筒进入与圆筒型基片载台之间的空间,同时通过加热器加热基片载台及其上的基片,以使反应气体发生反应,并在电池的基片上沉积形成金属聚合物膜层。

在实际应用中,为了尽可能地提高反应腔体内的气体分布均匀性,就需要在反应腔体的横向和纵向上布置大量的进气管,这不仅会导致进气管路的结构复杂化,给维护带来困难,且成本也较高,而且提高反应腔体内的气体分布均匀性的效果有限,往往无法满足工艺对均匀性的要求。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一,提出了一种筒状进气装置及镀膜设备,其不仅可以简化进气管路的结构,降低维护难度和成本,而且还可以有效提高气体分布均匀性,从而可以提高工艺均匀性。

为实现本实用新型的目的而提供一种筒状进气装置,包括相互嵌套的内筒体(31)和外筒体(32),其中,在所述内筒体(31)中设置有至少一组出气组,每组所述出气组包括多个出气孔(311);

还包括匀气结构,所述匀气结构设置在所述外筒体(32)的内周壁与所述内筒体(31)的外周壁之间,且包括至少一条匀气通道,所述匀气通道的数量与所述出气组的数量相同,且一一对应地设置;所述匀气通道具有一个进气端(3211)和多个出气端(3212),各个所述出气端(3212)和相应的所述出气组中的各个所述出气孔(311)一一对应地连通;并且,所述匀气通道被设置为所述进气端(3211)与各个所述出气端(3212)之间的通道距离一致;

在所述外筒体(32)中还设置有用于向各个所述匀气通道输送气体的进气通道(322)。

可选的,在所述外筒体(32)的内周壁上设置有至少一条第一匀气流道(321),所述第一匀气流道(321)与所述内筒体(31)的外周壁贴合形成闭合的所述匀气通道;

每个所述出气孔(311)为沿所述内筒体(31)的径向贯通所述内筒体(31)的通孔。

可选的,在所述内筒体(31)的轴向上,各个相邻的两个所述出气孔(311)之间的中心距相同;并且,在所述内筒体(31)的圆周方向上,各个相邻的两个所述出气孔(311)之间的中心距相同。

可选的,所述匀气通道包括沿进气方向依次设置的多级分支,其中,下一级所述分支和与之相邻的上一级所述分支串联,且同一级所述分支并联,并且下一级所述分支的数量是与之相邻的上一级所述分支的数量的两倍。

可选的,下一级所述分支和与之相邻的上一级所述分支相互垂直。

可选的,第一级所述分支沿所述外筒体(32)的圆周方向设置,且与所述外筒体(32)的径向截面相互平行。

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