[实用新型]滤光片

说明书

本申请公开了一种滤光片。该滤光片的一具体实施方式包括基底和设置在所述基底的第一面外侧的第一膜系，所述第一膜系包括高折射率膜层、低折射率膜层和匹配膜层；所述匹配膜层的材料包括氮掺杂硅锗混合物，所述氮掺杂硅锗混合物的化学式为Si_xGe_1‑xN_y，其中，0≤x≤1，0<y≤0.1，在780nm至3000nm波长范围内，所述高折射率膜层的折射率大于所述低折射率膜层的折射率，所述匹配膜层的折射率不等于其相邻的膜层的折射率。

技术领域

本公开涉及光学元件领域，更具体的，涉及一种近红外滤光片。

背景技术

近红外窄带滤光片可以应用于人脸识别系统、手势识别系统、激光雷达及智能家电等，前述这些系统或设备工作时，近红外窄带滤光片经常接收到倾斜入射的光线。

近红外窄带滤光片通常包括基底，基底的两面镀上多层膜形成膜系，近红外窄带滤光片具有对应光线的通带，通带波段对应的光大部分可以通过近红外窄带滤光片，非通带波段的光大部分被截止。业内需要一种具有优良滤光性能的滤光片以提高成像质量。

实用新型内容

为解决或部分解决现有技术中的上述缺陷，本申请的实施例提出了滤光片及制造滤光片的方法。本申请的实施例还提供了光学系统。

本申请的实施例提供了一种滤光片，所述滤光片包括基底和设置在所述基底的第一面外侧的第一膜系，所述第一膜系包括高折射率膜层、低折射率膜层和匹配膜层；所述匹配膜层的材料包括氮掺杂硅锗混合物，所述氮掺杂硅锗混合物的化学式为Si_xGe_1-xN_y，其中，0≤x≤1，0<y≤0.1，在780nm至3000nm波长范围内，所述高折射率膜层的折射率大于所述低折射率膜层的折射率，所述匹配膜层的折射率不等于其相邻的膜层的折射率。

在一个实施方式中，对应780nm至1200nm波长范围，所述滤光片具有通带，当光线的入射角由0°变为30°时，所述通带的中心波长的漂移量不大于16nm。

在一个实施方式中，所述滤光片的通带具有对应p光的中心波长和对应s光的中心波长，当光线的入射角为30°时，对应p光的中心波长与对应s光的中心波长之间的漂移不大于5nm。

在一个实施方式中，所述滤光片的通带的平均透过率不小于93％。

在一个实施方式中，对应780nm至1200nm波长范围内，所述高折射率膜层的折射率大于3，所述低折射率膜层的折射率小于3，所述匹配膜层的折射率位于1.7至4.5之间。

在一个实施方式中，所述氮掺杂硅锗混合物还可进一步掺杂氢，化学式为Si_xGe_1-xN_y:H_z，其中，0≤x≤1，0<y≤1，z≤1，其至少一部分为非晶态氢化掺氮硅锗混合物α-Si_xGe_1-xO_y:H_z。

在一个实施方式中，所述氮掺杂硅锗混合物还包括辅助成分，所述辅助成分包括氧、硼或磷中的一种或多种，所述辅助成分中各原子数与硅原子数之比小于10％。

在一个实施方式中，所述高折射率膜层的材料包括Si_wGe_1-w:H_v，其中，0≤w≤1，0≤v≤1。

在一个实施方式中，所述低折射率膜层的材料包括SiO₂、Si₃N₄、Ta₂O₅、Nb₂O₅、TiO₂、Al₂O₃、SiCN、SiC中的一种或多种的混合物