[实用新型]一种硅二极管银凸点电极的制作设备

权利要求书

1.一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：包括电镀槽、支撑装置、探针组、鼓液装置、电极板和电镀电源，所述支撑装置设置在电镀槽口，用于支撑待电镀的二极管芯片，所述鼓液装置和电极板均设置在所述电镀槽内部，所述探针组设置在所述待电镀的二极管芯片上方，且与待电镀的二极管芯片相抵，所述电镀电源正负极分别与所述电极板和探针组相连；还包括与电镀槽同轴心设置的电镀外槽，所述电镀外槽设置在所述电镀槽外部，用于接住所述电镀槽内溢出的电镀液，且与所述电镀槽内部贯通。

2.根据权利要求1所述的一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：所述支撑装置包括台面环和支撑立柱，所述台面环呈喇叭口型且上宽下窄，所述台面环下部套接在所述电镀槽口上，所述台面环的上部边缘设置有若干缺口，所述支撑立柱竖直设置在所述台面环上，所述支撑立柱顶端用于支撑所述待电镀的二极管芯片。

3.根据权利要求2所述的一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：所述支撑立柱包括不少于三根的第一立柱，所述第一立柱以所述台面环的中心轴线与水平面的交点为圆心呈圆周均布。

4.根据权利要求3所述的一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：所述支撑立柱还包括不少于三根的第二立柱，所述第二立柱以所述台面环的中心轴线与水平面的交点为圆心呈圆周均布，且所述第二立柱和第一立柱均匀间隔设置，所述第二立柱到所述台面环的中心轴线的距离大于所述第一立柱到所述台面环中心轴线的距离。

5.根据权利要求4所述的一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：所述第二立柱顶端高于所述第一立柱顶端，所述第一立柱顶端与所述台面环的上边缘齐平。

6.根据权利要求1所述的一种硅二极管银凸点电极的制作设备，其特征在于：所述探针组与所述电极板之间还连接有电流调节装置、开关及电流表。