[实用新型]一种匀光装置及光匀化设备

说明书

本实用新型涉及匀化技术领域，公开了一种匀光装置及光匀化设备。本实用新型包括第一匀光模组和第二匀光模组，入射光能够依次经过所述第一匀光模组后分为第一光和第二光，第二光和第三光经过第二匀光模组后会分成第四光、第五光、第六光和第七光，使得入射光的能量由较为汇聚的状态变为能量分布较为平均的状态。

技术领域

本实用新型涉及光匀化技术领域，尤其涉及一种匀光装置及光匀化设备。

背景技术

在激光加工或焊接中，输出光斑的能量分布直接影响到激光加工或焊接性能，没有进行任何光能量处理的激光器，输出的光斑能量分布满足高斯能量分布，即存在一个最大的峰值，在这最大的能量峰值功率下，激光所加工的元件最先受到作用，在能量峰以下的能量都小于峰值能量，作用在元件的强度都将小于峰值功率，在这种不均匀能量分布的激光作用下，加工元件所加工的切面或焊接不均匀，存在斜切面或焊接应力。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供了一种匀光装置及光匀化设备。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

提供了一种匀光装置，包括第一匀光模组和第二匀光模组，第一匀光模组和第二匀光模组均能使射入的光被分为相互垂直的两束偏振光，第二匀光模组位于第一匀光模组的下游，入射光能够依次经过第一匀光模组和第二匀光模组后射出。

作为对上述技术方案的改进，匀光模组包括分光装置和调整装置，调整装置位于分光装置的下游，入射光的入射方向与分光装置的光轴的方向呈90°。

作为对上述技术方案的进一步改进，匀光模组包括分光装置，分光装置的光轴的方向与入射光的入射方向呈45°。

作为对上述技术方案的进一步改进，第二匀光模组中的分光装置的光轴的方向为，第一匀光模组中的分光装置的光轴的方向以入射光的方向为轴旋转45度。

作为对上述技术方案的进一步改进，第二匀光模组中的分光装置的光轴的方向为，第一匀光模组中的分光装置的光轴的方向以入射光的方向为轴旋转90度。

还公开了一种匀光装置。

作为对上述技术方案的改进，还包括光源、隔离模块和输出模块，光源发出的光依次经过隔离模块、匀光装置和输出模块，从输出模块处向外输出。

作为对上述技术方案的进一步改进，匀光装置和输出模块之间具有1/4波片。

作为对上述技术方案的进一步改进，隔离模块包括第三分光装置、第三调整装置以及旋转装置，第三调整装置位于第三分光装置的下游，旋转装置位于第三调整装置的下游，旋转装置连接有磁管。

作为对上述技术方案的进一步改进，隔离模块还包括第四分光装置，第四分光装置位于旋转装置的下游。

本实用新型的有益效果是：入射光经过第一匀光模组，使得入射光分为两束光，两束光经过第二匀光模组分为四束光，通过第一匀光模组和第二匀光模组对入射光起到匀光的效果，使得光能量分布更均匀。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型一个实施例的匀光装置结构示意图；

图2是图1中B1处第一状态处光斑分布图1；

图3是图1中B1处第一状态处光斑分布图2；

图4是图1中B1处第一状态处光斑分布图3；

图5是图1中B3处第三状态光斑分布图1；

图6是图1中B3处第三状态光斑分布图2；

图7是图1中B3处第三状态光斑分布图3；