[实用新型]内腔式连续磁控溅射镀膜设备

权利要求书

1.一种内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：包括中空腔室以及沿中空腔室的长度方向布置的传动结构，其中：

所述传动结构能够带动镀膜管从中空腔室的一端进入并由另一端穿出；

所述中空腔室由进管室、连续镀膜室以及出管室依次连通组成，在进管室的两端以及在出管室的两端分别设有真空密封阀，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别密封；在进管室、连续镀膜室以及出管室上分别设有抽气口，使进管室、连续镀膜室以及出管室能够分别抽真空；所述连续镀膜室由外至内分别设有固定套管、环形的磁铁与环形的靶材，所述靶材通过电源线连接至外部电源，在连续镀膜室上设有贯通内外的布气管。

2.根据权利要求1所述的内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述环形的磁铁的中心位置以及环形的靶材的中心位置均与传动结构所带动的镀膜管的中心轴线相重合。

3.根据权利要求1所述的内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述连续镀膜室具有数个沿轴向拼接的靶材，相邻的靶材用绝缘条相互隔绝，并分别连接外部电源。

4.根据权利要求3所述的内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：相邻的靶材之间用挡板分隔开，挡板上开设有供镀膜管通过的穿孔。

5.根据权利要求1所述的内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述传动结构包括传动杆，所述传动杆穿入所述中空腔室内，两端分别从所述进管室以及出管室中伸出，在传动杆的外表面设有传动螺纹，并且在传动杆上套设有与传动螺纹形成螺纹连接的传动支架，每根镀膜管凭借数个传动支架套置在传动杆上，而且所述镀膜管的重心低于传动杆的回转中心一定幅度或者在所述镀膜管内下部置入有配重装置，使镀膜管无法自转。

6.根据权利要求5所述的内腔式连续磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述传动杆从进管室以及出管室伸出的一端分别设有间隔分布的内支撑柱与外支撑柱，而且，传动杆的两端各与一个传动源动力连接，使传动杆由两个传动源同步带动旋转。