[实用新型]一种双开门真空镀膜设备

说明书

一种双开门真空镀膜设备，解决现有技术存在的工件取放灵活性差，镀膜效率低，靶材直径小，弧光不够细腻，膜层均匀性差，涂层与基体的结合强度和韧性低，维护不方便的问题。包括内部设置有工件旋转架的长方体状真空室，其特征在于：真空室两侧开口处分别设置有真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ，真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的两个弧形内侧壁上，一共设置有三个电弧蒸发源组，每个电弧蒸发源组均由四个电弧蒸发源和四个引弧装置构成，相邻的电弧蒸发源之间设置有加热装置；真空室前部设置有离化源和阳极，真空室后部设置有抽气口。其设计合理，结构紧凑，工件取放灵活，涂层与基体结合强度高、韧性好，靶材多元化、膜系多样化，镀膜效率高，维护方便。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种工件取放灵活、快速，表面膜层均匀性好，涂层与基体的结合强度高、韧性好；靶材多元化、膜系多样化，镀膜效率高，维护方便的双开门真空镀膜设备。

背景技术

物理气相沉积（PVD），是一种气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下进行的。涂层的物资源是固态物质，经过蒸发或溅射后在工件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。物理气相沉积技术包括真空蒸发镀、离子镀、磁控溅射镀等。随着数控机床以及加工中心等高效设备应用的日益普及，在航空航天、汽车、高铁、风电、电子、模具等装备制造业空前发展的推动下，切削加工已迈入了一个以高速、高效和环保为标志的加工发展新时期。高速切削、干切削和硬切削作为当前切削技术的重要发展趋向，对切削刀具就有更高的要求，其中涂层刀具已经成为现代切削刀具的标志。

目前，涂层已进入到开发厚膜、复合膜及多元涂层的新阶段，金属表面多元多层的复合硬质涂层，全面提高了刀具（模具）的性能。然而，现有的真空镀膜设备，由于结构的限制，工件取放的灵活性差、速度慢，镀膜效率低，维护不方便；且靶材直径小，弧光不够细腻，溅射颗粒大，膜层均匀性差，严重影响金属表面复合硬质涂层的附着力，导致涂层与基体的结合强度和韧性低，耐高温抗氧化能力弱。故有必要对制备金属表面复合硬质涂层的现有真空镀膜设备予以改进。

实用新型内容

本实用新型就是针对上述问题，提供一种工件取放灵活、快速，表面膜层均匀性好，涂层与基体的结合强度高、韧性好；靶材多元化、膜系多样化，镀膜效率高，维护方便的双开门真空镀膜设备。

本实用新型所采用的技术方案是：该双开门真空镀膜设备包括长方体状的真空室，其特征在于：所述真空室的两侧开口处，分别设置有真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ，真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的一端，通过铰链分别与真空室相应侧的开口的侧部相铰接，真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的另外一端，则通过气动锁紧装置锁固在真空室开口的另一侧的外侧壁上；同时，所述真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的两个弧形内侧壁上，一共设置有三个电弧蒸发源组，且每个电弧蒸发源组均由四个电弧蒸发源和四个引弧装置构成，相邻的电弧蒸发源之间设置有加热装置；所述长方体状真空室前部的内侧壁上设置有至少两个用于工件镀膜前离子清洗的离化源，真空室内、离化源的前方设置有竖直布置的阳极；所述真空室上、与布置有离化源的前部相对的后部设置有抽气口，抽气口通过管路与真空抽气系统相连；真空室的顶部设置有充气孔，充气孔通过管路与充气系统相连；所述真空室的内侧还设置有工件旋转架，工件旋转架下端的中部设置有竖直布置的转动主轴，转动主轴穿出真空室底部的下端，通过减速机与转架驱动电机的输出轴相连。

所述气动锁紧装置包括锁紧气缸，锁紧气缸的固定端通过气缸连接座与真空室开口的外侧壁相连；锁紧气缸的伸缩端设置有锁紧压板，锁紧压板的端部设置有压合螺柱，所述压合螺柱与真空密封门端部的锁固凸沿相压紧配合。以利用锁紧气缸的伸缩来带动锁紧压板以及其上的压合螺柱往复运动，进而使真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ分别紧固地压合在真空室相应侧的开口上，确保真空室内的真空度。