[实用新型]量测真空腔室压力的组件及基板处理设备

权利要求书

1.一种量测真空腔室压力的组件，其特征在于，包括：

至少一真空压力计，经由一管路而流体连通至一真空腔室，以量测所述真空腔室中的压力；

一隔离阀，设置于所述至少一真空压力计与所述真空腔室之间，所述隔离阀经由所述管路而流体连通至所述至少一真空压力计及所述真空腔室；及

一手动阀，设置于所述隔离阀与所述真空腔室之间，所述手动阀经由所述管路而流体连通至所述隔离阀及所述真空腔室。

2.根据权利要求1所述的量测真空腔室压力的组件，其特征在于，所述手动阀是一球阀。

3.根据权利要求2所述的量测真空腔室压力的组件，其特征在于，所述球阀包括一阀杆、一球体及一阀体，在所述阀杆与所述阀体之间设置至少两个圆形垫圈，所述至少两个圆形垫圈彼此接触。

4.根据权利要求3所述的量测真空腔室压力的组件，其特征在于，所述阀杆包括两个凸缘，所述至少两个圆形垫圈夹设于所述两个凸缘之间。

5.根据权利要求1至4任一项所述的量测真空腔室压力的组件，其特征在于，所述管路包括一陶瓷衬管，所述手动阀是通过所述陶瓷衬管而直接连接至所述真空腔室的外壁。

6.一种基板处理设备，其特征在于，包括：

一真空腔室，用以在真空环境中处理一基板；

一基板支撑件，用以支撑所述基板在所述真空腔室中；

至少一气体源，流体连通至所述真空腔室，以供应至少一气体至所述真空腔室中；

一真空泵，流体连通至所述真空腔室，以维持所述真空腔室于一期望压力；

如权利要求1所述的量测真空腔室压力的组件，用以量测所述真空腔室中的压力；及

一控制器，用以控制所述基板处理设备中的操作。

7.根据权利要求6所述的基板处理设备，其特征在于，所述手动阀是一球阀。

8.根据权利要求7所述的基板处理设备，其特征在于，所述球阀包括一阀杆、一球体及一阀体，在所述阀杆与所述阀体之间设置至少两个圆形垫圈，所述至少两个圆形垫圈彼此接触。

9.根据权利要求8所述的基板处理设备，其特征在于，所述阀杆包括两个凸缘，所述至少两个圆形垫圈夹设于所述两个凸缘之间。

10.根据权利要求6至9任一项所述的基板处理设备，其特征在于，所述管路包括一陶瓷衬管，所述手动阀是通过所述陶瓷衬管而直接连接至所述真空腔室的外壁。