[实用新型]量测真空腔室压力的组件及基板处理设备

说明书

本实用新型关于一种量测真空腔室压力的组件，包括真空压力计、隔离阀、及手动阀。真空压力计是经由一管路而流体连通至真空腔室，以量测真空腔室中的压力。隔离阀是设置于真空压力计与真空腔室之间，并且经由管路而流体连通至真空压力计及真空腔室。手动阀是设置于隔离阀与真空腔室之间，并且经由管路而流体连通至隔离阀及真空腔室。

技术领域

本实用新型关于基板处理设备；具体而言，本实用新型关于用于量测真空腔室压力的组件。

背景技术

在集成电路(IC)的制造期间，需要利用各种真空处理设备进行半导体基板的处理。在真空处理设备中，通常会设置真空压力计与真空处理设备中的真空腔室连接，以在基板处理期间监测真空腔室中的压力。但若真空压力计故障或损坏而需要更换时，必须先使真空腔室破真空并且恢复到约1大气压，然后才能更换真空压力计。然而，破真空之后，通常必须执行真空处理设备的预防保养(preventive maintenance)，以更换真空腔室中的零件及消耗品、并且清洁真空腔室。接着，再将真空腔室抽真空至所需的真空压力，并且执行设备测试，若测试结果正常，才能继续进行基板处理。如此一来，会增加机台设备的停机时间及人力消耗，亦即，增加了IC制造的成本。

当需要更换真空压力计时，若能使真空腔室维持于真空条件下而不需要破真空的话，就可以大大地减少停机时间。在此背景下，本实用新型产生。

实用新型内容

本实用新型通过提供用于量测真空腔室压力的组件以及包括其的基板处理设备，以解决上述问题。

本实用新型关于一种量测真空腔室压力的组件，包括真空压力计、隔离阀、及手动阀。真空压力计是经由一管路而流体连通至真空腔室，以量测真空腔室中的压力。隔离阀是设置于真空压力计与真空腔室之间，并且经由管路而流体连通至真空压力计及真空腔室。手动阀是设置于隔离阀与真空腔室之间，并且经由管路而流体连通至隔离阀及真空腔室。

本实用新型亦关于一种基板处理设备，包括真空腔室、基板支撑件、气体源、真空泵、量测真空腔室压力的组件、及控制器。在基板处理期间，真空腔室是维持在真空环境下，用以处理一基板。基板支撑件用以将基板支撑在真空腔室中以进行处理。气体源是流体连通至真空腔室，以供应至少一气体至真空腔室中。真空泵是流体连通至真空腔室，以维持真空腔室于期望的压力(真空)条件下。量测真空腔室压力的组件是用以量测真空腔室中的压力。控制器是用以控制基板处理设备中的操作。

在一实施例中，手动阀是球阀。球阀包括阀杆、球体及阀体，在阀杆与阀体的间设置至少两个圆形垫圈(O-ring)，该至少两个圆形垫圈彼此接触。在另一实施例中，阀杆包括两个凸缘，该至少两个圆形垫圈是夹设于该两个凸缘之间。在又一实施例中，管路包括陶瓷衬管，手动阀是通过陶瓷衬管而直接连接至真空腔室的外壁。

以下将参考图式以进一步说明这些及其它态样。

附图说明

图1表示根据本实用新型的一实施例的基板处理设备的示意图。

图2A及2B表示根据本实用新型的一实施例的球阀的剖面示意图。

图3表示根据本实用新型的一实施例的真空压力量测组件的分解示意图。

其中图中，100、基板处理设备；102、真空腔室；104、基板支撑件；106、气体源；108、真空泵；110、量测真空压力的组件；112、控制器；114、真空压力计；116、管路；118、隔离阀；120、手动阀；200、球阀；202、阀杆；204、球体；206、阀体；208、贯通孔；210、管路；212、214、圆形垫圈(O-ring)；216、218凸缘；300、量测真空压力的组件；302、304、真空压力计；306、隔离阀；308、手动阀；310、管件；312、真空腔室；W、基板。

具体实施方式