[实用新型]一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构

权利要求书

1.一种等离子体CVD装置的腔内台升降机构，设置在机架（1）上，所述机架的工作平台（2）上设有等离子腔（3），等离子腔的下端设有开口，开口处设有腔体法兰（4），其特征是，所述工作平台下方的机架上竖直设有导轨（5），所述升降机构包括设置在导轨上的升降座（6），所述升降座由电机（7）驱动，升降座的一侧设有水平结构的升降台（8），升降台上方设有用于密封等离子腔下端开口的升降法兰（9），升降台与升降法兰之间设有缓冲机构，等离子体CVD装置的腔内台（10）通过支撑管（11）固定在升降台上，腔内台位于升降法兰的上方且与等离子腔下端的开口相对应；升降机构还包括限位开关，所述限位开关连接电机。

2.根据权利要求1所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，所述缓冲机构包括固定在升降法兰底面的若干根导柱（12），导柱上套设有弹簧（13），升降台上设有与导柱对应的导套（14），导柱穿过所述的导套，其下端固定在升降台下方设置的上固定环（15）上。

3.根据权利要求2所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，所述的导柱为3-6根，在升降法兰底面环绕中心均匀布置，所述的导套固定在升降台的底面，所述的上固定环位于导套的下侧。

4.根据权利要求1所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，所述的升降座上设有丝杆螺套（16），丝杆螺套与竖直设置的升降丝杆（17）螺接，升降丝杆的下端与固定在机架上的电机连接，丝杆的上端枢接在机架的工作平台上。

5.根据权利要求1所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，升降台上设有腔内台高度微调装置，所述腔内台高度微调装置包括设置在升降台底面的若干根导杆（18）及一根手动丝杆（19），升降台的下方设有丝杆座（20），丝杆座上设有丝杆螺母（21）及导杆套（22），所述导杆穿过所述的导杆套，其下端固定在丝杆座下方设置的下固定环（23）上，所述手动丝杆与丝杆螺母螺接且其上端枢接在升降台上，手动丝杆的下部穿过下固定环，其下端设有手柄（24）。

6.根据权利要求5所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，所述的导杆为3-5根，所述导杆连同手动丝杆在升降台底面环绕中心均匀布置。

7.根据权利要求5所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，升降法兰的底面中央设有波纹管上法兰（25），丝杆座上固定有波纹管下法兰（26），波纹管上法兰与设有波纹管下法兰之间固定有防泄漏波纹管（27）。

8.根据权利要求7所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，升降法兰及波纹管上法兰与支撑管之间设有聚四氟乙烯材质的套管（28），波纹管下法兰与支撑管之间设有密封圈。

9.根据权利要求1所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，电机通过电机座（29）固定在机架上，电机与升降丝杆之间通过联轴器（30）连接；升降法兰上设有密封圈（31）。

10.根据权利要求1-9任一项所述的等离子体CVD装置的腔内台升降机构，其特征在于，腔内台为中空结构，底部设有开口，开口处固定所述的支撑管，所述支撑管包括同轴设置的外管（32）及内管（33），外管的顶端固定在腔内台底部的开口处，内管的顶端靠近腔内台的中空结构顶部且外周设有向外延伸的扩水板（34），内管的下端设有进水口（35），外管的下端设有出水口。