[实用新型]清洁装置及离子植入设备

权利要求书

1.一种清洁装置，用于清理磁分析器单元的腔室，其特征在于，所述清洁装置包括刷子、基座和控制模块，所述基座与所述刷子连接，所述控制模块与所述基座连接，所述控制模块用于控制所述基座带动所述刷子在所述腔室内移动，以使所述刷子与所述腔室的内壁相抵触并擦拭所述腔室的内壁。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述控制模块用于控制所述基座沿第一方向移动，所述基座用于带动所述刷子移动；

所述控制模块还用于控制所述刷子沿第二方向伸缩；

所述刷子用于清理所述腔室的内壁；

其中，所述腔室为具有弯曲弧度的空腔，所述第一方向为所述腔室的长度方向；

所述第二方向为所述腔室的宽度方向。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，还包括：

设置于所述腔室内部的轨道，所述轨道沿所述第一方向延伸；以及，

固定设置于所述基座的底部并与所述轨道配合的滑轮；

所述控制模块用于控制所述滑轮沿所述轨道正向或反向移动。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述轨道设置于所述腔室的顶部，且所述轨道沿所述第一方向从所述腔室的入口端延伸至所述腔室的出口端。

5.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述刷子包括刷头和轴杆，所述轴杆用于连接所述刷子与所述基座；所述控制模块用于控制所述轴杆沿所述第二方向伸缩，使得所述刷头远离或靠近所述基座；所述刷头与所述腔室的内壁相抵触并擦拭所述腔室的内壁。

6.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，所述控制模块包括第一控制单元和第二控制单元；当所述滑轮移动至所述腔室的入口端或出口端时，所述第一控制单元用于改变所述滑轮沿所述轨道的移动方向；当所述滑轮位于所述入口端或所述出口端时，所述第二控制单元用于控制所述轴杆沿所述第二方向伸缩，使得所述刷头远离/靠近所述基座。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述第一控制单元包括第一电机和第一电机控制电路；所述第一电机控制电路用于控制所第一电机正向/反向转动，所述第一电机的转动带动所述滑轮沿所述轨道正向/反向移动。

8.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述第二控制单元包括第二电机和第二电机控制电路；所述第二电机控制电路用于控制所述第二电机正向/反向转动，所述第二电机的正向/反向转动带动所述轴杆伸缩。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述第二控制单元控制所述轴杆伸出N次，每次均采用延时控制，其中，N≥1。

10.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述控制模块还包括无线交互单元；所述无线交互单元用于接受外部指令以启闭所述清洁装置；所述无线交互单元还用于为所述第一控制单元和所述第二控制单元无线充电。

11.根据权利要求5所述的清洁装置，其特征在于，还包括与所述刷头固定连接的剥落物容器；当所述刷头移动时，所述剥落物容器随所述刷头移动，用于存储所述刷头清理掉的剥落物。

12.根据权利要求1-11任一项所述的清洁装置，其特征在于，还包括刷具放置箱，所述刷具放置箱位于所述磁分析器单元的腔室入口端的外侧，且所述刷具放置箱的开口面向所述磁分析器单元的腔室；

当所述清洁装置闲置时，所述刷子、所述基座和所述控制模块位于所述刷具放置箱内。

13.一种离子植入设备，其特征在于，包括磁分析器单元和如权利要求1-12任一项所述的清洁装置，所述清洁装置用于对所述磁分析器单元的腔室进行清理。