[实用新型]一种刻蚀槽有效
申请号: | 201920915548.7 | 申请日: | 2019-06-18 |
公开(公告)号: | CN209785967U | 公开(公告)日: | 2019-12-13 |
发明(设计)人: | 曹为龙;张建峰;朱元;王森 | 申请(专利权)人: | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67;H01L21/306 |
代理公司: | 11332 北京品源专利代理有限公司 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 224431 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 盖板内表面 容置腔 本实用新型 擦拭装置 盖板 刻蚀槽 硅片 太阳能电池技术 开口处 槽体 滴落 刻蚀 擦拭 水珠 开口 体内 保证 | ||
本实用新型公开了一种刻蚀槽,其属于太阳能电池技术领域,包括具有容置腔的槽体,所述容置腔的顶部具有开口,所述开口处盖设有盖板,所述盖板朝向所述容置腔的表面为盖板内表面,所述槽体内设有擦拭装置,所述擦拭装置能够沿第一方向往复运动,以对所述盖板内表面进行擦拭。本实用新型使得盖板内表面的水珠不会滴落到刻蚀槽内的硅片上,保证硅片的刻蚀质量。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池技术领域,尤其涉及一种刻蚀槽。
背景技术
太阳能电池作为最清洁的可再生资源,应用领域日益广泛。硅太阳能电池是太阳能电池中的一种,基于硅无毒、廉价和地壳中储量大的优势,目前,绝大多数商业化的太阳能电池都是用硅制作的。
刻蚀作为太阳能电池生产中的一道重要工序,一般有干法和湿法两种刻蚀方法。湿法刻蚀的工序一般在刻蚀槽内进行,通过化学反应对硅片进行刻蚀。
但是是湿法刻蚀的过程中,尤其是夏季,车间湿度较大,温度较低,硅片在刻蚀槽内进行刻蚀工序时,刻蚀槽内的化学反应会放出大量的热量,热量上升的过程中,导致刻蚀槽内的水蒸气遇到低温的刻蚀槽盖板会冷凝液化为水珠,附着在盖板内表面。一方面,附着在盖板内表面的水珠长时间积聚后会由于重力滴落到刻蚀槽内的硅片上,影响硅片的刻蚀质量;另一方面,大面积的水珠附着在盖板上,使得操作人员无法通过盖板观察刻蚀槽内的反应情况。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种刻蚀槽,以解决现有技术中存在的对硅片采用湿法刻蚀时,刻蚀槽的盖板内表面容易附着水珠,水珠滴落到硅片上时影响硅片刻蚀质量的技术问题。
如上构思,本实用新型所采用的技术方案是:
一种刻蚀槽,包括具有容置腔的槽体,所述容置腔的顶部具有开口,所述开口处盖设有盖板,所述盖板朝向所述容置腔的表面为盖板内表面,所述槽体内设有擦拭装置,所述擦拭装置能够沿第一方向往复运动,以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中,所述擦拭装置包括驱动机构和沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸的擦拭刷,所述擦拭刷与所述盖板内表面抵接,所述驱动机构能够驱动所述擦拭刷沿所述第一方向往复运动,以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中,所述驱动机构为无杆气缸,所述无杆气缸包括固设于所述容置腔内的活塞杆和能够沿所述活塞杆运动的活塞,所述擦拭刷与所述活塞固定连接,所述擦拭刷能够随所述活塞运动以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中,所述擦拭刷包括固定部和设于所述固定部上的擦拭部,所述固定部与所述活塞固定连接,所述擦拭部能够抵接于所述盖板内表面以对所述盖板内表面进行擦拭。
其中,所述盖板沿所述第一方向延伸且倾斜于水平面设置。
其中,所述盖板内表面设有导流凹槽,所述导流凹槽沿所述第一方向延伸。
其中,还包括废液收集槽,所述导流凹槽内的液体能够流入所述废液收集槽内。
其中,所述废液收集槽设于所述槽体上,且位于所述盖板较低的一端。
其中,所述废液收集槽上设有废液排出口,以将所述废液收集槽内的液体排出。
其中,所述盖板包括第一板和第二板,所述第一板和所述第二板上均设有循环凹槽,所述第一板和所述第二板紧密贴合后所述第一板和所述第二板的所述循环凹槽能够对合形成两端具有开口的循环空洞,所述循环空洞能够允许热气流通过。
本实用新型提出的刻蚀槽,在槽体内设置擦拭装置,由擦拭装置对盖板内表面进行擦拭,防止过多的水珠附着在盖板内表面积聚、因重力滴落到刻蚀槽内的硅片上后影响硅片质量,从而有效保证硅片的刻蚀质量。
附图说明
图1是本实用新型实施例提供的刻蚀槽的外部结构示意图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的