[实用新型]一种用于标注晶圆片参考点的治具有效

专利信息
申请号: 201920926735.5 申请日: 2019-06-19
公开(公告)号: CN209843676U 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 乔振宏;王志强;钱杰;赵亚岭;沈晓峰 申请(专利权)人: 紫光宏茂微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/68
代理公司: 31285 上海市嘉华律师事务所 代理人: 黄琮;傅云
地址: 201700 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶圆片 治具 定位辅助缺口 参考点 前侧板 本实用新型 标注 晶圆本体 标记孔 后侧板 上侧板 右侧板 左侧板 铁圈 成容置空间 缺口指示 容置空间 位置通过 标志笔 正确率 重合 朝上 放入 行列 保证
【说明书】:

本实用新型实施例公开了一种用于标注晶圆片参考点的治具。本实用新型的治具,包括:前侧板、后侧板、左侧板、右侧板和上侧板,前侧板、后侧板、左侧板、右侧板和上侧板围成容置空间,前侧板上设有第二定位辅助缺口和第一标记孔。晶圆片包括:晶圆本体和铁圈,铁圈上设有标记缺口,晶圆本体上设有第一定位辅助缺口。本实用新型的治具,治具的前侧板朝上水平放置,晶圆片以标记缺口指示的固定方向放入治具的容置空间内,当第一定位辅助缺口与第二定位辅助缺口重合时,在第一标记孔位置通过标志笔在晶圆本体上标注出参考点,即完成晶圆片参考点的标注,方便快捷,也避免了人为的数错晶圆片参考点的行列数的情况,保证标注的正确率。

技术领域

本实用新型实施例涉及晶圆技术领域,具体涉及一种用于标注晶圆片参考点的治具。

背景技术

晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆。在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品。晶圆的圆周外侧设有铁圈,用于保护晶圆。

芯片是指内含集成电路的硅片,体积很小,常常是计算机或其他电子设备的一部分。晶圆是制造芯片的原材料,每块晶圆可制作成多块芯片,芯片在晶圆上加工完成后,通过切割设备在晶圆上切割出横竖交错的切割槽,再根据晶圆电子地图,通过机台设备将芯片从晶圆上吸出。晶圆电子地图是指晶圆上每块芯片的坐标位置,芯片坐标是相对晶圆片参考点(晶圆左下角上最外侧的第一块完整芯片)的坐标,晶圆放入机台设备前,需在晶圆片上标注出参考点,以供机台设备读取。

本申请的发明人发现,现有技术中在晶圆片上标注参考点时,操作者根据晶圆片参考点的位置,数出参考点相应的行列数进行标识,费时费力,且由于许多产品的芯片较小,在晶圆上加工的芯片数量较多,更是容易数错参考点的行列数从而标错参考点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于标注晶圆片参考点的治具,可在晶圆片上快速标出参考点。

本实用新型实施例提供一种用于标注晶圆片参考点的治具,包括:前侧板、后侧板、左侧板、右侧板和上侧板;

所述晶圆片包括:晶圆本体和铁圈;

所述铁圈位于所述晶圆本体的圆周外侧,所述铁圈对应的上下左右四侧均设有切割直边,所述切割直边与所述晶圆本体上的切割槽平行或垂直,且所述铁圈在一切割直边的两侧设有标记缺口;

所述晶圆本体上设有第一定位辅助缺口;

所述前侧板和所述后侧板相互平行且相对设置,所述左侧板和所述右侧板相互平行且相对设置,所述前侧板、所述后侧板、所述左侧板和所述右侧板的顶端分别与所述上侧板垂直且固定连接,以围成一用于放置所述铁圈的容置空间,且所述标记缺口用于指示所述铁圈进入所述容置空间的进入方向;

所述前侧板为透明板;

所述前侧板上设有第二定位辅助缺口和第一标记孔;

所述第二定位辅助缺口与所述第一定位辅助缺口对应;

所述第一标记孔与所述晶圆片的参考点对应,用于标注所述晶圆片的参考点。

在一种可行的方案中,所述第一定位辅助缺口和所述第二定位辅助缺为V型缺口。

在一种可行的方案中,所述前侧板上设有第一镂空槽和第二镂空槽;

所述第一镂空槽水平设置;

所述第二镂空槽与所述第一镂空槽垂直相交设置,且所述第二镂空槽与所述第一镂空槽的交点形成所述第一标记孔。

在一种可行的方案中,所述前侧板上设有第一定位辅助线;

所述第一定位辅助线水平设置,位于所述前侧板的上部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于紫光宏茂微电子(上海)有限公司,未经紫光宏茂微电子(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201920926735.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top