[实用新型]一种半导体制程喷砂保护治具

说明书

本实用新型公开了一种半导体制程喷砂保护治具，包括基座、安置槽、第一固定环、第二固定环、第一固定螺纹杆、第二固定螺纹杆和限位螺母，基座上设置有安置槽，安置槽中安置有产品本体，基座的上部设置有第一固定螺纹杆，第一固定螺纹杆上安装有第一固定环，基座的中间位置处设置有内圈安置座，内圈安置座的上部设置有第二固定螺纹杆，第二固定螺纹杆上安装有第二固定环，第一固定螺纹杆和第二固定螺纹杆上均安装有限位螺母。本实用新型通过设置基座、安置槽、第一固定环、第二固定环、第一固定螺纹杆、第二固定螺纹杆和限位螺母，解决了产品放置在喷砂工作台上喷砂使用，无需喷砂的部位也容易被喷砂，仍需后续处理，不便于操作的问题。

技术领域

本实用新型涉及半导体制程depo ring喷砂技术领域，具体为一种半导体制程喷砂保护治具。

背景技术

现阶段，快速热工艺(Rapid Thermal Processing)已应用于许多半导体的制程上，例如快速热氧化(Rapid Thermal Oxidation)、快速热化学气相沉积(Rapid ThermalCVD)，快速热退火(Rapid Thermal Annealing)等，由此可知，快速热工艺对于半导体制程已相当地重要。其中半导体制程depo ring生产过程中需要对其进行喷砂工艺处理。

但是，现有的技术具有以下不足：产品直接放置在喷砂工作台上喷砂使用，无需喷砂的部位也容易被喷砂，仍需要后续处理，不便于操作。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种半导体制程喷砂保护治具，解决了产品直接放置在喷砂工作台上喷砂使用，无需喷砂的部位也容易被喷砂，仍需要后续处理，不便于操作的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体制程喷砂保护治具，包括基座、安置槽、第一固定环、第二固定环、第一固定螺纹杆、第二固定螺纹杆和限位螺母，所述基座上设置有安置槽，所述安置槽中安置有产品本体，所述基座的上部设置有第一固定螺纹杆，所述第一固定螺纹杆上安装有第一固定环，所述基座的中间位置处设置有内圈安置座，所述内圈安置座的上部设置有第二固定螺纹杆，所述第二固定螺纹杆上安装有第二固定环，所述第一固定螺纹杆和第二固定螺纹杆上均安装有限位螺母。

优选的，所述第一固定环与基座相契合，所述第一固定环对应第一固定螺纹杆的位置处设置有第一穿孔，所述第一穿孔与第一固定螺纹杆相契合。

优选的，所述第一固定螺纹杆设置有四个，且第一固定螺纹杆呈环形阵列分布在基座上，所述第一固定螺纹杆与限位螺母螺纹连接。

优选的，所述第二固定环与内圈安置座相契合，所述第二固定环对应第二固定螺纹杆的位置处设置有第二穿孔，所述第二穿孔与第二固定螺纹杆相契合。

优选的，所述第二固定螺纹杆设置有四个，且第二固定螺纹杆呈环形阵列分布在内圈安置座上，所述第二固定螺纹杆与限位螺母螺纹连接。

优选的，所述产品本体与基座上设置的安置槽相契合，所述产品本体直接安放在安置槽的内部。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种半导体制程喷砂保护治具，具备以下有益效果：