[实用新型]基片固定装置及物理气相沉积设备

说明书

本实用新型提供的基片固定装置及物理气相沉积设备，其包括载板、压块和至少一对按压结构；其中，载板用于承载基片，压块位于载板的上方，每对按压结构分别设置于压块及载板相对应的两端，按压结构包括弹性件、第一弹板和第二弹板，第一弹板的第一端与压块连接，第二弹板的第一端与载板可伸缩的连接，第一弹板的第二端和第二弹板的第二端通过弹性件连接，弹性件用于使第一弹板的第一端与第二弹板的第一端彼此远离。借助按压结构将压块按压在载板上，既避免使用气缸等部件，从而能够在真空环境中对载板上的基片进行固定，又避免使用磁吸的方式，从而避免了对磁控溅射中的电磁场产生干扰。

技术领域

本实用新型属于太阳电池制造领域，具体涉及一种基片固定装置及物理气相沉积设备。

背景技术

物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，以下简称PVD)是指用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。PVD设备是实现该过程的一种普遍应用的生产设备。其中，由于立式PVD设备的各种优点，如降低成本、膜层质量好等，被普遍应用于越来越多的工厂生产中。

立式PVD设备在生产过程中，由机械手将基片装载到待镀膜的载板中，然后使用压块将基片固定，使其在镀膜过程中保持固定的位置。由于在真空环境中生产，无法使用气缸等常规部件对其进行固定，故目前的方案采用了磁吸的方式，将压块吸附在载板上，以达到固定基片的目的。

但是，PVD设备在实际的生产过程中，通常采用的是磁控溅射的方式，以电磁场来控制粒子的运动轨迹，压块上施加的磁场会对磁控溅射的磁场造成干扰，影响粒子的运动轨迹，最终影响产品的质量。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中压块以磁吸方式吸附在载板上导致影响磁控溅射的磁场的问题，提出了一种基片固定装置及物理气相沉积设备。

为解决上述问题，本实用新型提供了一种基片固定装置，其中，包括载板、压块和至少一对按压结构；其中，

所述载板用于承载所述基片；

所述压块位于所述载板上方；

每对所述按压结构分别设置于所述压块及所述载板相对应的两端，所述按压结构均包括弹性件、第一弹板和第二弹板，所述第一弹板的第一端与所述压块连接，所述第二弹板的第一端与所述载板可伸缩的连接，所述第一弹板的第二端和所述第二弹板的第二端通过所述弹性件连接，所述弹性件用于使所述第一弹板的第一端与所述第二弹板的第一端彼此远离。

其中，所述弹性件为扭簧，所述第一弹板的第二端和所述第二弹板的第二端通过所述扭簧铰接。

其中，所述载板上设置有与所述第二弹板一一对应的弹板挡块，所述弹板挡块与所述载板之间具有间隔，所述第二弹板的第一端伸入所述间隔内并可相对所述弹板挡块绕动。

其中，所述载板上设置有与所述第二弹板一一对应的卡块，在各所述卡块的相对侧分别具有卡槽，所述第二弹板的第一端远离所述第一弹板的第一端时，所述第二弹板的第一端卡接在所述卡槽内。

其中，所述第一弹板与所述第二弹板的形状及尺寸均相同。

其中，所述载板上设置有与所述第二弹板一一对应的凸台，所述弹板挡块或所述卡块设置在所述凸台的上表面。

其中，所述第一弹板的背离所述第二弹板的一侧设置有第一抓取槽，所述第二弹板的背离所述第一弹板的一侧设置有第二抓取槽，所述第一抓取槽与所述第二抓取槽对称设置。

其中，所述第一弹板的第一端固定有第一支脚，第一支脚为板状体，所述第一弹板与所述第一支脚呈大于90°夹角，所述第一弹板通过所述第一支脚与所述压块相连接。