[实用新型]一种磁控溅射镀膜设备

权利要求书

1.一种磁控溅射镀膜设备，其特征在于：包括清洗腔室、镀膜腔室和门阀，所述清洗腔室和镀膜腔室通过连通门相连，所述门阀用于打开或关闭所述连通门；

所述清洗腔室内设有第一传送机构、等离子清洗装置、样品架和多个第一样品台，每个所述第一样品台用于放置一个所述样品架；多个所述第一样品台能够在驱动机构的驱动下升降，以将所述第一样品台上的样品架放置在第一传送机构上；

所述镀膜腔室内设有靶材、第二传送机构和多个第二样品台，所述靶材位于所述第二传送机构的下侧；每个所述第二样品台用于放置一个所述样品架；所述第二样品台能够在驱动机构的驱动下升降，以将所述第二传送机构上的样品架装入第二样品台上；

所述第一传送机构和第二传送机构的承载面相对，以使所述样品架能够在第一传送机构和第二传送机构上转移。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述清洗腔室内设有位于所述第一传送机构上侧的第一支撑架，多个所述第一样品台的一端分别与所述第一支撑架相连，且多个所述第一样品台相互平行并间隔设置；所述驱动机构与所述第一支撑架相连，用于驱动所述第一支撑架上下移动；

所述镀膜腔室内设有位于所述第二传送机构上侧的第二支撑架，多个所述第二样品台的一端分别与所述第二支撑架相连，且多个所述第二样品台相互平行并间隔设置；所述驱动机构与所述第二支撑架相连，用于驱动所述第二支撑架上下移动。

3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述第一样品台和第二样品台均为板状结构。

4.根据权利要求3所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述第一传送机构包括两条相互平行的第一链条，两条所述第一链条之间形成第一间隙，所述第一样品台对应位于所述第一间隙的上侧；

所述第二传送机构包括两条相互平行的第二链条，两条所述第二链条之间形成第二间隙，所述第二样品台位于所述第二间隙的上侧。

5.根据权利要求4所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述第一间隙与所述第二间隙的宽度相等，所述样品架的宽度大于所述第一间隙和第二间隙的宽度。

6.根据权利要求5所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述样品架包括中间形成通孔的本体，所述本体上形成用于支撑衬底的安装槽，所述本体上设有多个插销，所述插销用于与所述第一链条和第二链条配合。

7.根据权利要求6所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述本体为中部形成通孔的矩形框架，所述矩形框架的内侧设有安装板，所述安装板与所述框架之间形成所述安装槽。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述矩形框架的相对两侧均设有所述插销，所述插销垂直于所述矩形框架。

9.根据权利要求7所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述样品架还包括固定栓，所述固定栓与所述本体相连，所述固定栓用于将衬底压紧在所述矩形框架上。

10.根据权利要求6所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述本体上设有定位板。