[实用新型]一种介质气气道结构及等离子炬

权利要求书

1.一种介质气气道结构，其特征在于，包括：

安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；

设置在所述安装部上的介质气输送结构，所述介质气输送结构中设置有气体缓冲室，所述气体缓室的进气口与所述安装部的介质气进气通道连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入所述气体缓冲室的介质气的压力。

2.根据权利要求1所述的介质气气道结构，其特征在于，所述介质气输送结构远离所述安装部的端面上开设有若干螺旋出气孔，各所述螺旋出气孔均与所述气体缓冲室连通，用以使所述气体缓冲室中的介质气呈螺旋状流向所述等离子炬的阴阳极起弧区域。

3.根据权利要求2所述的介质气气道结构，其特征在于，各所述螺旋出气孔均匀分布在所述介质气输送结构的远离所述安装部的端面上。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的介质气气道结构，其特征在于，所述介质气输送结构为筒体结构，其侧壁中设置有环形空腔，形成所述气体缓冲室。

5.根据权利要求4所述的介质气气道结构，其特征在于，所述环形空腔靠近所述安装部的端部设置有环形凸起，所述环形凸起上开设有若干缺口，各所述缺口形成所述气体缓冲室的进气口，各所述气体缓冲室的进气口与所述安装部上的介质气进气通道连通，用以将介质气进气通道中的介质气导入所述气体缓冲室中。

6.根据权利要求5所述的介质气气道结构，其特征在于，各所述缺口沿所述环形凸起的周向均匀分布。

7.根据权利要求5所述的介质气气道结构，其特征在于，所述安装部为法兰结构，所述介质气输送结构套接于所述法兰结构的内孔中。

8.根据权利要求7所述的介质气气道结构，其特征在于，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气通道，每个所述介质气进气通道沿所述安装部的径向延伸，并且，各所述介质气进气通道分别与所述气体缓冲室的进气口一一对应设置。

9.根据权利要求8所述的介质气气道结构，其特征在于，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气管，各所述介质气进气管的进口均与介质气储气装置连通，各所述介质气进气管的出口分别与各所述介质气进气通道连通。

10.一种等离子炬，其特征在于，包括：阴极区部件、阳极区部件和如权利要求1至9中任一项所述的介质气气道结构；其中，

所述阴极区部件与所述阳极区部件之间形成介质气室，所述介质气气道结构插设于所述介质气室中；

所述介质气气道结构中的气体缓冲室的进气口与外部介质气储气装置连通，所述气体缓冲室的出气口与所述介质气室连通，用以稳定进入所述进入气体缓冲室的介质气的压力。