[实用新型]一种介质气气道结构及等离子炬

说明书

本实用新型提供了一种介质气气道结构及等离子炬，该气道结构包括：安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；设置在安装部上的介质气输送结构，介质气输送结构中设置有气体缓冲室，气体缓冲室的进气口与安装部的介质气进气通道连通，气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入气体缓冲室的介质气的压力。本实用新型中，通过在介质气输送结构中设置气体缓冲室，以对进入气体缓冲室的介质气进行缓冲，在稳定介质气压力的同时使其形成均匀的螺旋状气流并流向等离子炬的阴阳极起弧区域。

技术领域

本实用新型涉及等离子炬技术领域，具体而言，涉及一种介质气气道结构及等离子炬。

背景技术

随着工业的高速发展，等离子炬在各个行业中的应用越来越广泛，诸如：焊接、切割、固废处理等。那么，设计制造稳定优良的等离子炬就越发重要。

介质气的气流的稳定性是影响等离子炬性能的一个重要因素。目前市场上的等离子炬的介质气体进气有以下几种常见方式：a.轴向进气：该进气方式中气体沿一定的方向前进，但气流、气压都难以稳定，影响弧焰的质量；b.切向进气：该进气方式，当介质气体进入到弧室中时，是沿着弧室的壁旋转，需气体填满弧室后，才溢流到弧焰处，气体在弧室中流动没有确定的方向，靠气量增加后，产生溢流。这些方式有一共同点：介质气体从储气装置，通过阀门后，直接流进等离子炬的介质气室，与放电弧接触，产生等离子。这一特点的弊端在，气压不稳定，导致气体流场不稳定，从而使得等离子炬焰不稳定。

实用新型内容

鉴于此，本实用新型提出了一种介质气气道结构及等离子炬，旨在解决现有技术中由于介质气经储气装置直接进入等离子炬的介质气室而导致的等离子炬焰不稳定的问题。

一个方面，本实用新型提出了一种介质气气道结构，包括： 安装部，其用以分别与等离子炬的阴极区部件和阳极区部件进行装配；设置在所述安装部上的介质气输送结构，所述介质气输送结构中设置有气体缓冲室，所述气体缓室的进气口与所述安装部的介质气进气通道连通，所述气体缓冲室的出气口与等离子炬的阴阳极起弧区域连通，用以稳定进入所述气体缓冲室的介质气的压力。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述介质气输送结构远离所述安装部的端面上开设有若干螺旋出气孔，各所述螺旋出气孔均与所述气体缓冲室连通，用以使所述气体缓冲室中的介质气呈螺旋状流向所述等离子炬的阴阳极起弧区域。

进一步地，上述介质气气道结构中，各所述螺旋出气孔均匀分布在所述介质气输送结构的远离所述安装部的端面上。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述介质气输送结构为筒体结构，其侧壁中设置有环形空腔，形成所述气体缓冲室。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述环形空腔靠近所述安装部的端部设置有环形凸起，所述环形凸起上开设有若干缺口，各所述缺口形成所述气体缓冲室的进气口，各所述气体缓冲室的进气口与所述安装部上的介质气进气通道连通，用以将介质气进气通道中的介质气导入所述气体缓冲室中。

进一步地，上述介质气气道结构中，各所述缺口沿所述环形凸起的周向均匀分布。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部为法兰结构，所述介质气输送结构套接于所述法兰结构的内孔中。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气通道，每个所述介质气进气通道沿所述安装部的径向延伸，并且，各所述介质气进气通道分别与所述气体缓冲室的进气口一一对应设置。

进一步地，上述介质气气道结构中，所述安装部沿周向设置有若干介质气进气管，各所述介质气进气管的进口均与介质气储气装置连通，各所述介质气进气管的出口分别与各所述介质气进气通道连通。