[实用新型]抛光垫及抛光设备

说明书

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，提供一种抛光垫及抛光设备，抛光垫包括表面功能层和基底层，所述表面功能层和所述基底层之间设有分离层，所述表面功能层和所述基底层均可拆卸的与所述分离层连接；抛光设备，包括如以上所述的抛光垫和抛光机，所述抛光垫可拆卸的安装在所述抛光机的盘面上。通过在表面功能层和基底层之间设置分离层，保证表面功能层和基底层与分离层均可拆卸的连接，实现基底层的可重复利用，只需拆卸表面功能层进行更换即可，降低了抛光生产成本，结构简单，操作方便。

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，特别是涉及一种抛光垫及抛光设备。

背景技术

抛光垫是化学机械抛光中决定表面质量的重要辅料，按材质的不同可以分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫和复合型抛光垫；按表面结构的不同大致可分为平面型、网格型和螺旋线型等，其主要作用为：

①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域；

②将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果；

③维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行；

④保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的晶片表面形貌。

抛光垫的总体结构可为表面功能层、基底层、粘胶层三部分，目前所有的抛光垫的表面功能层与基底层是一体的；在化学机械抛光时，主要是抛光垫的表层与晶片、抛光液在接触，磨损消耗的也是抛光垫的表面结构层，因此当抛光垫的表面结构失去功效(如沟槽磨损掉、表面釉化等)后，往往需将整个抛光垫更换掉，造成抛光垫基底层的浪费，增加了生产成本。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种抛光垫及抛光设备，以解决现有抛光垫的更换造成的浪费的问题。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种抛光垫，包括表面功能层和基底层，所述表面功能层和所述基底层之间设有分离层，所述表面功能层和所述基底层均可拆卸的与所述分离层连接。

其中，所述分离层包括至少两层分离件，相邻两层所述分离件粘接，靠近所述表面功能层的第一层所述分离件与所述表面功能层粘接，靠近所述基底层的最后一层所述分离件与所述基底层粘接。

其中，所述表面功能层包括表面层和防渗层，所述表面层与所述防渗层粘接，所述防渗层与所述分离层粘接。

其中，所述表面层设有沟槽，用以放置待抛光件。

其中，所述防渗层的材质为聚乙烯高分子材料。

其中，所述基底层的第一侧与所述分离层粘接，所述基底层与第一侧相背的第二侧粘接隔离层。

本实用新型还提供一种抛光设备，包括如以上所述的抛光垫和抛光机，所述抛光垫可拆卸的安装在所述抛光机的盘面上。

(三)有益效果

本实用新型提供的一种抛光垫和抛光设备，通过在表面功能层和基底层之间设置分离层，保证表面功能层和基底层与分离层均可拆卸的连接，实现基底层的可重复利用，只需拆卸表面功能层进行更换即可，降低了抛光生产成本，结构简单，操作方便。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例抛光垫的结构示意图。