[实用新型]一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机有效

专利信息
申请号: 201921144098.2 申请日: 2019-07-21
公开(公告)号: CN210636072U 公开(公告)日: 2020-05-29
发明(设计)人: 闫文军;杜良辉;张勇 申请(专利权)人: 江苏壹度科技股份有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08;B01D46/10;B01D53/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 212400 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 废气 收集 装置 半导体 蚀刻
【说明书】:

实用新型涉及蚀刻设备技术领域,具体为一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,包括装置主体,装置主体上设有废气收集处理装置,废气收集处理装置包括设置在装置主体上的第一出气管,保护套筒内设有驱动电机,驱动电机的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片,底座上设有第二出气管,第二出气管上设有废气处理筒,排气管的末端管体的管壁上紧密粘接有细滤网。本实用新型操作简单,使用方便,实现对蚀刻过程中产生的废气进行处理,减少有害气体对人体造成的不利影响。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻设备技术领域,具体为一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机。

背景技术

蚀刻机是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻目的设备,目前蚀刻机的种类较多,其中有专门针对半导体进行蚀刻的半导体钛钨蚀刻机,但是一般的半导体钛钨蚀刻机上未设有废气收集处理装置,在某些情况下,进行蚀刻时会产生一定的有害气体,危害人的健康。鉴于此,我们提出一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,以解决上述背景技术中提出的一般的半导体钛钨蚀刻机上未设有废气收集处理装置,在某些情况下,进行蚀刻时会产生一定的有害气体,进而会危害人的健康的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种带废气收集装置的半导体钛钨蚀刻机,包括装置主体,所述装置主体上设有废气收集处理装置,所述废气收集处理装置包括设置在所述装置主体上的第一出气管,所述第一出气管的其中一末端穿过所述装置主体的外壳并与所述装置主体内部的空腔相连通,所述第一出气管的另外一末端设有保护套筒,所述保护套筒内设有驱动电机,所述驱动电机的输出轴末端紧密焊接有若干个呈环状等间距排列的风扇叶片,所述保护套筒上设有底座,所述底座上设有第二出气管,所述第一出气管与所述第二出气管相连通,所述第二出气管上设有废气处理筒,所述废气处理筒内设有储液空腔,所述第二出气管与所述储液空腔相连通,所述废气处理筒上还设有与所述储液空腔相连通的排气管,所述排气管的末端管体的管壁上紧密粘接有细滤网,所述排气管的末端管体的管壁上还紧密粘接有活性炭吸附网,所述活性炭吸附网位于最外侧。

优选的,所述底座与所述保护套筒为一体成型结构。

优选的,靠近保护套筒的所述第一出气管的末端管体上紧密焊接有密封盖,所述密封盖与所述保护套筒之间通过若干个紧固螺栓固定连接。

优选的,所述驱动电机与所述保护套筒的内壁之间紧密焊接有两个相互对称的固定板。

优选的,所述废气处理筒上还设有沿着废气处理筒高度方向设置的透明视窗。

优选的,所述废气处理筒上还设有螺纹投药管,所述螺纹投药管与所述储液空腔相连通,所述螺纹投药管上螺纹连接有螺纹盖。

优选的,所述储液空腔内盛装有药液,所述第二出气管的末端管体插入到药液内,所述排气管的末端管体位于药液的上方。

优选的,所述密封盖与所述保护套筒之间还设有密封筒,所述密封筒与所述保护套筒之间插接配合,所述密封筒上设有密封环,所述密封盖将所述密封环压紧在所述保护套筒上。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型通过设置的废气收集处理装置,实现将装置主体内部空腔中的废气输送至废气处理筒内,对废气进行收集,利用药液对废气进行处理,并通过在排气管内设置的细滤网以及活性炭吸附网,实现对废气进行进一步处理,保证将废气处理的更加彻底,解决了一般的半导体钛钨蚀刻机上未设有废气收集处理装置,在某些情况下,进行蚀刻时会产生一定的有害气体,进而会危害人的健康的问题。

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