[实用新型]一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构

说明书

本实用新型提供一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构，包括对称设置的上毛刷组和下毛刷组，上毛刷组包括第一毛刷、第二毛刷，下毛刷组包括第三毛刷和第四毛刷，第一毛刷与第三毛刷对位设置，第二毛刷与第四毛刷对位设置；第一毛刷结构与第三毛刷结构相适配，第二毛刷结构与第四毛刷结构相适配；第一毛刷为圆型结构，第二毛刷为椭圆形结构，第二毛刷的最小半径与最大半径比为1：1.2‑1.5；第一毛刷半径不小于第二毛刷最大半径；在第一毛刷和第二毛刷上均设有若干刷头，刷头以圆心为中心向外分布。本实用新型毛刷结构，解决了容易漏刷的问题，清洗效果好，清洗效率高。

技术领域

本实用新型属于新能源半导体行业硅圆片清洗设备技术领域，尤其是涉及一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构。

背景技术

现有大尺寸硅圆片清洗机中所用的毛刷，因其结构设计不合理，导致容易出现漏刷现象，使得硅圆片表面上的金刚砂、硅粉等砂浆液清洗不干净，清洗效果差，经常需要返工重新清洗，导致清洗效率低，清洗时间长，严重影响生产效率。

发明内容

本实用新型要解决的问题是提供一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构，尤其是适用于大尺寸硅圆片的清洗，解决了现有技术中毛刷结构设计不合理导致清洗效果差、易漏刷，清洗效率低的技术问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构，包括对称设置的上毛刷组和下毛刷组，所述上毛刷组包括第一毛刷、第二毛刷，所述下毛刷组包括第三毛刷和第四毛刷，所述第一毛刷与所述第三毛刷对位设置，所述第二毛刷与所述第四毛刷对位设置；所述第一毛刷结构与所述第三毛刷结构相适配，所述第二毛刷结构与所述第四毛刷结构相适配；所述第一毛刷为圆型结构，所述第二毛刷为椭圆形结构，所述第二毛刷的最小半径与最大半径比为1：1.2-1.5；所述第一毛刷半径不小于所述第二毛刷最大半径；在所述第一毛刷和所述第二毛刷上均设有若干刷头，所述刷头以圆心为中心向外分布。

进一步的，所述刷头以圆心为中心螺旋形向外扩散分布。

进一步的，所述刷头以圆心为中心呈同向圆弧形向外扩散分布。

进一步的，所述第一毛刷与所述第二毛刷中心距离小于硅圆片半径；

进一步的，所述第一毛刷与所述硅圆片同心设置。

进一步的，所述第二毛刷圆心位于所述硅圆片内缘。

进一步的，所述第一毛刷和所述第二毛刷同轴设置且位于所述硅圆片中心轴线上。

进一步的，所述第一毛刷中心到所述第二毛刷外径的轴线距离大于所述硅圆片的半径。

进一步的，所述第一毛刷距离所述硅圆片端面的距离与所述第二毛刷距离所述硅圆片端面的距离相同。

进一步的，所述上毛刷组与所述下毛刷组同向同步旋转。

本实用新型具有的优点和积极效果是：与现有技术相比，本实用新型提出一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构，结构设计合理，解决了容易漏刷的问题，清洗效果好，清洗效率高。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的一种大尺寸硅圆片清洗机所用的毛刷结构的立体图；

图2是本实用新型一实施例的毛刷与硅片的结构示意图；

图3是本实用新型一实施例的上毛刷组的俯视图；

图4是本实用新型一实施例的第一毛刷中刷头分布的结构示意图；

图5是本实用新型一实施例的第二毛刷中刷头分布的结构示意图；

图6是本实用新型另一实施例的第一毛刷中刷头分布的结构示意图；