[实用新型]一种三层可排气镭雕装置有效
申请号: | 201921162817.3 | 申请日: | 2019-07-23 |
公开(公告)号: | CN211248785U | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 沈文斌 | 申请(专利权)人: | 和宏华进纳米科技(上海)有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70;B23K26/16 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 高振红 |
地址: | 201500 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三层 排气 装置 | ||
1.一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,包括中空结构的镭雕壳体(1)及设置于所述镭雕壳体(1)上方的镭雕仪(2),所述镭雕仪(2)底部设有激光头(3),所述激光头(3)自所述镭雕壳体(1)顶壁穿入,并朝下布置;所述镭雕壳体(1)内自上而下依次设有载物平台一(41)、载物平台二(42)和载物平台三(43);所述镭雕壳体(1)底部设有底座(5)。
2.根据权利要求1所述的一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,所述载物平台一(41)、载物平台二(42)及载物平台三(43)通过导轨(6)固定于所述镭雕壳体(1)内壁。
3.根据权利要求1所述的一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,所述载物平台一(41)、载物平台二(42)和载物平台三(43)之间上下平行且等距间隔布置。
4.根据权利要求1所述的一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,所述镭雕壳体(1)上设有一与其连通的排气管(8)。
5.根据权利要求1所述的一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,所述镭雕壳体(1)上枢设一腔室门(7),所述腔室门(7)与所述镭雕壳体(1)上的开口相匹配。
6.根据权利要求1所述的一种三层可排气镭雕装置,其特征在于,所述载物平台一(41)、载物平台二(42)及载物平台三(43)上均设置有夹具(9)。
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